[發(fā)明專利]一種絲網(wǎng)印刷電極、制備工藝及其應用無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810032125.7 | 申請日: | 2008-08-22 |
| 公開(公告)號: | CN101344501A | 公開(公告)日: | 2009-01-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 司士輝;陳昕;梁逸曾;曾小明;梁豐 | 申請(專利權)人: | 中南大學 |
| 主分類號: | G01N27/30 | 分類號: | G01N27/30;G01N27/48 |
| 代理公司: | 長沙市融智專利事務所 | 代理人: | 顏勇 |
| 地址: | 410083湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 絲網(wǎng) 印刷 電極 制備 工藝 及其 應用 | ||
1.一種絲網(wǎng)印刷電極,其特征在于,包括在一個基體上采用鈦粉和納米氧化鈦混合物作為工作電極印刷漿料、通過絲網(wǎng)印刷技術制備并單獨進行化學修飾處理的工作電極,該工作電極上具有一個采用光固絕緣漿印制的用紫外光固化的電極規(guī)范層;還包括在另一個基體上采用碳粉油墨和銀-氯化銀漿料印制的輔助電極和氯化銀參比電極;所述輔助電極和氯化銀參比電極表面具有一個絕緣漿印制的電極絕緣層;所述的工作電極、輔助電極和氯化銀參比電極采用硅橡膠組裝到一起。
2.如權利要求1所述的絲網(wǎng)印刷電極,其特征在于,所述鈦粉/納米氧化鈦混合物中,鈦粉質量百分比為80~90%,余量為納米氧化鈦;所述鈦粉選擇80~120目,所述納米氧化鈦粒徑為15~25nm。
3.一種絲網(wǎng)印刷電極制備工藝,其特征在于,包括以下步驟:
在一個電極基體上,采用鈦粉/納米氧化鈦混合物作為印刷漿料,通過絲網(wǎng)印刷技術制備鈦粉/納米氧化鈦工作電極并烘干;所述鈦粉/納米氧化鈦混合物中,鈦粉質量百分比為80~90%,余量為納米氧化鈦;電極表面用絕緣漿印制電極絕緣層;
在另一個電極基體上,采用碳粉油墨和銀-氯化銀漿料印制輔助電極和參比電極并烘干;在輔助電極和參比電極表面用絕緣漿印制電極絕緣層;
對鈦粉/納米氧化鈦工作電極單獨進行化學修飾處理;
采用硅橡膠將所述的工作電極、輔助電極和氯化銀參比電極組裝到一起。
4.如權利要求3所述的一種絲網(wǎng)印刷電極制備工藝,其特征在于,鈦粉/納米氧化鈦工作電極印制過程中,烘干溫度為200~220攝氏度;所述的輔助電極和參比電極的印制過程中,烘干溫度為100~150攝氏度。
5.如權利要求3或4所述的一種絲網(wǎng)印刷電極制備工藝,其特征在于,所述的化學修飾處理為:將鈦粉/納米氧化鈦工作電極浸泡于0.1~0.2mol/mL的氯化汞修飾劑溶液中在相對于飽和甘汞電極的恒電位-0.3~-0.1V還原,用二次蒸餾水清洗干凈烘干備用。
6.如權利要求5所述的一種絲網(wǎng)印刷電極制備工藝,其特征在于,所述鈦粉選擇80~120目,所述納米氧化鈦粒徑為15~25nm。
7.一種應用權利要求1所述絲網(wǎng)印刷電極測定重金屬離子的方法,其特征在于:在HCL溶液中加入待測樣本,將所述絲網(wǎng)印刷電極下端浸入溶液,采用伏安分析,根據(jù)獲得的峰電流測定重金屬離子濃度;
所述的化學修飾處理為:將鈦粉/納米氧化鈦工作電極浸泡于0.1~0.2mol/mL的氯化汞修飾劑溶液中在相對于飽和甘汞電極的恒電位-0.3~-0.1V還原,用二次蒸餾水清洗干凈烘干備用;所述的重金屬為銅、鉛或鎘。
8.一種應用權利要求1所述絲網(wǎng)印刷電極測定磺胺嘧啶的方法,其特征是:在B-R中加入待測樣品,將所述絲網(wǎng)印刷電極下端浸入溶液,采用吸附循環(huán)伏安法測量靈敏度氧化峰電流,根據(jù)靈敏度氧化峰電流與磺胺嘧啶的濃度之間的線性關系,測定磺胺嘧啶的濃度;所述的B-R緩沖溶液由0.04mol/L混合酸與0.2mol/L氫氧化鈉溶液配制,其中混合酸組成為(2.71ml磷酸+2.36ml冰乙酸+2.47g硼酸)/L,所述的化學修飾處理為:將鈦粉/納米氧化鈦工作電極浸泡于0.1~0.2mol/mL的氯化汞修飾劑溶液中在相對于飽和甘汞電極的恒電位-0.3~-0.1V還原,用二次蒸餾水清洗干凈烘干備用。
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