[發明專利]用超聲波清除溶液中顆粒表面包層的方法、工藝及用途

有效

• 申請號: 200810031566.5
• 申請日: 2008-06-24
• 公開（公告）號: CN101293194A
• 公開（公告）日: 2008-10-29
• 發明（設計）人: 曾興民;游力揮;梁中堂;盛曉敏
• 申請（專利權）人: 株洲市興民科技有限公司
• 主分類號: B01J19/10
• 分類號: B01J19/10
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司
• 代理人: 盧宏

1.一種用超聲波清除顆粒表面包層的方法，在含有一種以上顆粒 狀物質的溶液內或外，設置超聲波發射裝置，超聲波發射裝置所發出 的超聲波穿過含有一種以上顆粒狀物質的溶液，并在含有一種以上顆 粒狀物質的溶液中撞擊溶液中的顆粒，利用超聲波撞擊溶液中的顆 粒，清除顆粒表面包層，使顆粒裸露自身表面；并采用常規的硫化工 藝、常規的浮選工藝或常規的浸出工藝，其特征在于：在常規硫化工 藝、常規的浮選工藝或常規的浸出工藝條件下，增加對礦漿溶液施加 頻率60-200kHz、聲強5-200w/cm²的超聲波撞擊工藝條件，使礦漿溶 液在硫化、浮選或浸出同時受到超聲波的撞擊。