[發(fā)明專利]化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810031235.1 | 申請日: | 2008-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN101270470A | 公開(公告)日: | 2008-09-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐元洪;李曉川;林良武;徐海峰;黃伯云 | 申請(專利權(quán))人: | 中南大學(xué) |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;C23C16/52 |
| 代理公司: | 長沙市融智專利事務(wù)所 | 代理人: | 顏勇 |
| 地址: | 410083湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學(xué) 沉積 合成 金屬催化劑 生長 納米 方法 | ||
1、一種化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:將碳源氣體和載氣的混合氣通入溫度為940℃~980℃的環(huán)境中,在無金屬催化劑條件下,碳源氣體的分解產(chǎn)物在650℃~750℃的襯底上沉積形成自組生長碳納米管。
2、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:所述的碳源氣體為氣態(tài)含碳化合物。
3、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:所述載氣為氮?dú)狻錃狻鍤庵环N或其2種或多種的混合氣體。
4、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:提供加熱和分解反應(yīng)環(huán)境的設(shè)備為高溫爐。
5、如權(quán)利要求4所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:所述的襯底位于所述高溫爐內(nèi)的出氣端。
6.如權(quán)利要求4所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:在對所述高溫爐內(nèi)通入混合氣之前,將所述高溫爐抽真空,再在載氣的保護(hù)下升溫至940℃~980℃。
7、如權(quán)利要求4所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:所述的高溫爐為臥式真空管式高溫爐。
8、如權(quán)利要求1任一項(xiàng)所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:所述的襯底為剛玉、石英片、硅片或氧化鋁襯底。
9、如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:所述碳源氣體和載氣的流量比1∶2~1∶4。
10、如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的化學(xué)氣相沉積合成無金屬催化劑自組生長碳納米管的方法,其特征在于:在所述的940℃~980℃溫度下保溫1~5小時(shí)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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