[發(fā)明專利]確定性光學加工條件下頻段誤差分布特性的分析方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810030817.8 | 申請日： | 2008-03-14 |
| 公開（公告）號： | CN101240998A | 公開（公告）日： | 2008-08-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 戴一帆;李圣怡;王貴林;楊智;吳冬良;吳宇列;解旭輝 | 申請（專利權）人： | 中國人民解放軍國防科學技術大學 |
| 主分類號： | G01B11/24 | 分類號： | G01B11/24;G01B11/00 |
| 代理公司： | 長沙恒熙知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人： | 劉熙 |
| 地址： | 410073湖南*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 確定性 光學 加工 條件下 頻段 誤差 分布 特性 分析 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種確定性光學加工條件下頻段誤差分布特性的分析方法，其特征在于通過以下步驟完成：
1)采用光學檢測裝置得到被測光學元件加工后的面形誤差數(shù)據(jù)，并消除趨勢項和常數(shù)項；
2)利用面形誤差的測量數(shù)據(jù)計算出PSD曲線，根據(jù)PSD曲線的極大值點確定光學加工誤差的敏感頻段，分析加工過程中面形誤差的變化趨勢；
3)針對光學加工誤差的分布特征，依據(jù)相似性原則，選擇基本小波；
4)利用二維連續(xù)小波變換對光學加工誤差的敏感頻段進行分析，確定其具體分布區(qū)域；
5)通過比較不同工藝條件下的加工結果，分析光學加工誤差敏感頻段的分布特性與工藝參數(shù)之間的關系，為修正加工提供指導。
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