[發明專利]陶瓷表面裝飾層的制造方法

有效

• 申請號: 200810029484.7
• 申請日: 2008-07-08
• 公開（公告）號: CN101318842A
• 公開（公告）日: 2008-12-10
• 發明（設計）人: 吳渭陽;吳澤騰;吳澤帆
• 申請（專利權）人: 吳渭陽
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 汕頭市潮睿專利事務有限公司
• 代理人: 丁德軒

技術領域

本發明涉及一種陶瓷表面裝飾層的制造方法。

背景技術

釉下青花顏料是用含氧化鈷的鈷礦原料，用于在陶瓷坯體上描繪 紋飾。在釉下青花顏料繪成的紋飾上罩上一層三維結晶藝術釉，就可 以經高溫還原焰一次燒成陶瓷表面裝飾層。而三維結晶藝術釉，是一 種釉中含有人造晶體而呈現各色晶花的藝術釉，燦爛奪目，別具一格。 三維結晶藝術釉的人造結晶的形成條件與燒成條件、施釉厚度相互牽 制但又相互相承，釉的流動性大，加之釉下青花顏料位于三維結晶藝 術釉底部，難以控制釉下青花顏料的花色清晰程度、成晶的最佳狀態， 因此至今依然無法獲得釉下青花顏料的花色清晰、三維結晶藝術釉的 人造晶體結晶效果好的陶瓷表面裝飾層，無法用于在陶瓷表面形成國 畫等對清晰度要求高的圖案。

發明內容

本發明的目的是對現有技術進行改進，提供一種陶瓷表面裝飾層 的制造方法，可以獲得釉下青花顏料的花色清晰、三維結晶藝術釉的 人造晶體結晶效果好的陶瓷表面裝飾層，采用的技術方案如下：

本發明的陶瓷表面裝飾層的制造方法，其特征在于：包含以下步 驟：

1)用釉下青花顏料在陶瓷上文飾；

2)將陶瓷上的釉下青花顏料烘干；

3)在陶瓷上的釉下青花顏料上施上或噴上三維結晶藝術釉；

4)陶瓷在氧化氣氛下升溫到1300-1320℃，然后快速降溫到1130℃；

5)陶瓷在1130℃保溫1.5-2小時，然后熄火讓其自然冷卻。

上述步驟4中陶瓷升溫的速度：1000℃以內每小時180-200℃， 1000℃以上以內每小時80-100℃，降溫的時間為20-40分鐘。

一種方案，所述三維結晶藝術釉含有以下重量百分比的組分：SiO₂40-50％、Al₂O₃?8-12％、CaO?6-10％、MgO?3-5％、K₂O?4-6％、Na₂O?4-5％、 ZnO?18-25％、Co₂O₃?0.6-1.2％以及其它含量的雜質和釉燒溫度下分解或 揮發出的化學成分。

所述三維結晶藝術釉采用下述礦石或化合物為原料，其組成和重 量百分比為：長石32-40％、水磨石英24-30％、氧化鋅18-25％、白云 石15-20％、四氧化三鈷0.5-1.5％以及其他含量的雜質和釉燒溫度下分 解或揮發出的化學成分。

另一種方案，所述三維結晶藝術釉含有以下重量百分比的組分： SiO₂?45-55％、Al₂O₃?5-10％、CaO?3-6％、MgO?2-4％、Na₂O?8-14％、ZnO?25-30％、 TiO₂?1-2％以及其它含量的雜質和釉燒溫度下分解或揮發出的化學成 分。

所述三維結晶藝術釉采用下述礦石或化合物為原料，其組成和重 量百分比為：玻璃60-65％、高嶺土10-15％、氧化鋅24-29％、氧化鈦 1-2％以及其他含量的雜質和釉燒溫度下分解或揮發出的化學成分。

第三種方案，所述三維結晶藝術釉含有以下重量百分比的組分： SiO₂?65-73％、Al₂O₃?20-25％、CaO?1-5％、MgO?0.3-2％、K₂O?3-5％、Na₂O 1-2％、Fe₂O₃?1-2％以及其它含量的雜質和釉燒溫度下分解或揮發出的化 學成分。

所述三維結晶藝術釉采用下述礦石或化合物為原料，其組成和重 量百分比為：長石35-40％、水磨石英15-20％、燒滑石10-15％、骨灰 12-18％、三氧化二鐵15％-20％以及其他含量的雜質和釉燒溫度下分解 或揮發出的化學成分。

所述釉下青花顏料采用下述礦石或化合物為原料，其組成和重量 百分比為：氧化鈷30-40％、氧化鋅10-20％、石英20-30％、長石15-25％。

較優的方案，上述釉下青花顏料采用下述礦石或化合物為原料， 其組成和重量百分比為：氧化鈷38-40％、氧化鋅15-18％、石英24-27％、 長石20-23％。