[發明專利]塑膠件表面清潔方法有效
| 申請號: | 200810028593.7 | 申請日: | 2008-06-06 |
| 公開(公告)號: | CN101423619A | 公開(公告)日: | 2009-05-06 |
| 發明(設計)人: | 王建 | 申請(專利權)人: | 東莞勁勝精密組件股份有限公司 |
| 主分類號: | C08J7/12 | 分類號: | C08J7/12 |
| 代理公司: | 東莞市華南專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 張 明 |
| 地址: | 523000廣東省東莞市長安鎮*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 塑膠 表面 清潔 方法 | ||
技術領域:
本發明涉及塑膠件表面處理技術領域,更具體地說涉及一種塑膠件表面清潔方法。?
背景技術:
塑膠手機外殼質感好,耐磨性好,成本較低,因此大量用于手機產品上。塑膠手機外殼在鍍膜前、后均要進行清潔,以便提高產品質量。?
目前,傳統的清潔方法為,采用超聲波清洗設備進行清洗,這種超聲波清洗設備的工作原理是,由超聲波發生器發出的高頻振蕩信號,通過換能器轉換成高頻機械振蕩而傳播到介質-清洗溶劑中,超聲波在清洗液中疏密相間地向前輻射,使液體流動而產生數以萬計的直徑為50-500μm的微小氣泡,這些氣泡在超聲波縱向傳播的負壓區形成、生長,而在正壓區迅速閉合,在這個過程中,氣泡閉合可形成幾百度的高溫和超過1000個氣壓的瞬間高壓,連續不斷地產生瞬間高壓,就象一連串小“爆炸”不斷地沖擊物件表面,使物件的表面及縫隙中的污垢迅速剝落,從而達到物件表面清洗凈化的目的。采用這種方法的缺點是,超聲波清洗設備成本高,占地廣,容易殘留水份影響產品品質。?
還有一種傳統的清潔方法,即手工擦試,利用手工對塑膠手機外殼進行擦拭清潔。采用這種方法的缺點是,需要投入大量的人力,而且效率低,清潔效果不好,產品品質不穩定。?
發明內容:
本發明的目的在于針對現有技術的不足,提供一種塑膠件表面清潔方法,該方法可降低設備成本、提高生產效率、保證產品品質、提高表面潔凈度。?
為實現上述目的,本發明是通過以下技術方案實現的:塑膠件表面清潔方法,它包括以下步驟:?
第一步,將塑膠件組裝到工件架上,裝入真空鍍爐設備內;?
第二步,真空鍍爐設備內抽真空;?
第三步,真空鍍爐設備內注入氬氣;?
第四步,打開負電源,真空鍍爐設備內注入氬氣,使真空鍍爐設備上的離子發射源產生氬離子,氬離子在真空環境下高能量轟擊塑膠件表面。?
所述第二步中,真空鍍爐設備內抽真空后的真空度為2.0×10-2Pa。?
所述第三步中,氬氣注入量為50~300ml。?
所述第四步中,氬離子轟擊塑膠件表面的時間為3~5min。?
所述第四步中,氬氣注入量為50~200ml/min。?
所述第四步中,離子發射源的工作電壓為250Ua×10Ua,工作電流為0.3A±0.1A。?
本發明的有益效果:本發明只需在真空鍍爐設備基礎上增加一套離子發射源設備,利用氬氣在離子發射源的激蕩下,產生氬離子,氬離子對塑膠件表面進行表面物理轟擊與化學反應,使塑膠件表面發生活化作用,從而達到去除表面污漬的目的,因此,該塑膠件表面清潔方法具有降低設備成本、提高生產效率、保證產品品質、提高表面潔凈度的優點。?
具體實施方式:
實施例,塑膠件表面清潔方法,它包括以下步驟:?
第一步,將塑膠件組裝到工件架上,裝入真空鍍爐設備內,對真空鍍爐?設備進行密封操作;?
第二步,使用抽真空裝置對真空鍍爐設備內進行抽真空,使真空度為2.0×10-2Pa;?
第三步,真空鍍爐設備內注入氬氣,使氬氣注入量為50~300ml;?
第四步,打開負電源,負電源啟動真空鍍爐設備上的離子發射源,離子發射源產生氬離子,離子發射源的工作電壓為250Ua×10Ua,工作電流為0.3A±0.1A,氬離子在真空環境下高能量轟擊塑膠件表面,氬離子轟擊塑膠件表面的時間為3~5min;轟擊的同時,真空鍍爐設備內注入氬氣,氬氣注入量為50~200ml/min,以保證真空鍍爐設備內氬氣的濃度滿足要求。?
氬氣在離子發射源的激蕩下,產生氬離子,氬離子對塑膠件表面進行表面物理轟擊與化學反應,使塑膠件表面發生活化作用,從而達到去除表面污漬的目的,因此,該塑膠件表面清潔方法具有降低設備成本、提高生產效率、保證產品品質、提高表面潔凈度的優點。?
以上所述僅是本發明的較佳實施例,故凡依本發明專利申請范圍所述的構造、特征及原理所做的等效變化或修飾,均包括于本發明專利申請范圍內。?
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