[發明專利]基于4f相位相干成像系統測量材料的光學非線性的方法

有效

• 申請號: 200810023628.8
• 申請日: 2008-04-09
• 公開（公告）號: CN101261224A
• 公開（公告）日: 2008-09-10
• 發明（設計）人: 宋瑛林;李云波;王煜;楊俊義;王玉曉
• 申請（專利權）人: 蘇州大學
• 主分類號: G01N21/45
• 分類號: G01N21/45
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司
• 代理人: 陶海鋒

1.一種基于4f相位相干成像系統測量材料的光學非線性的方法，4f相位相干成像系統通過分束鏡將入射激光分成兩束，一束為探測光進入測量光路，通過4f系統后用CCD相機采集；另一路為參考光；樣品位于測量光路4f系統的傅立葉平面，其特征在于：所述參考光的光路是4f系統，且參考光路的出射方向和測量光路的出射方向平行，并采用同一個CCD相機采集；其測量步驟為：

1)能量定標，取走樣品，將校準的能量計放置在樣品的位置，并使激光光斑能夠全部打到能量計探測頭上，然后發射一個激光脈沖，用能量計測量脈沖的能量，同時用CCD相機采集到參考光路得到的參考光斑；

2)測量擬合，取走能量計，把待測樣品放在測量系統的傅里葉平面上，再入射一個脈沖光，在CCD上將得到兩個光斑：入射光經過主光路打過樣品后在CCD上獲得非線性光斑和經過參考光路后得到的參考光斑，根據獲得的非線性光斑和參考光斑進行數值擬合得到待測樣品的非線性折射率，擬合中通過對參考光斑的計算得到測量過程中入射到待測樣品上的激光脈沖的能量，利用參考光斑上的光強分布作為入射光光強分布。

2.根據權利要求1所述的基于4f相位相干成像系統測量材料的光學非線性的方法，其特征在于：所述分束鏡的透過率和反射率各為50％。