[發(fā)明專利]一種基于密度分布矩陣的大規(guī)模仿真體系的表征方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810023129.9
• 申請(qǐng)日: 2008-07-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101339585A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙健偉;尹星
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 趙健偉
• 主分類號(hào): G06F19/00
• 分類號(hào): G06F19/00;G06T11/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種基于密度分布矩陣的大規(guī)模仿真體系表征方法，其特征在于包括以下步驟：

(1)統(tǒng)計(jì)一個(gè)有限空間中所有點(diǎn)的原子存在情況，對(duì)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行離散化處理，根據(jù)原子密度分布函數(shù)得到了一個(gè)一維的、二維的或三維的原子密度分布矩陣；

(2)把密度分布矩陣投影到一個(gè)或多個(gè)平面上；

(3)對(duì)原子密度分布矩陣進(jìn)行采樣；當(dāng)采樣頻率低于奈奎斯特頻率，即欠采樣頻率條件下，利用大范圍花紋的產(chǎn)生規(guī)律判定晶向與結(jié)晶程度；當(dāng)采樣頻率高于奈奎斯特頻率，即足夠采樣頻率條件下，利用對(duì)稱性和晶面間距判定晶向與結(jié)晶程度。