[發明專利]超薄太陽能級硅片及其切割工藝有效
| 申請號: | 200810019894.3 | 申請日: | 2008-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN101241939A | 公開(公告)日: | 2008-08-13 |
| 發明(設計)人: | 吳偉成;毛和璜;李云霞 | 申請(專利權)人: | 常州有則科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/18;B28D5/00 |
| 代理公司: | 常州市科誼專利代理事務所 | 代理人: | 孫彬 |
| 地址: | 213022江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 超薄 太陽 能級 硅片 及其 切割 工藝 | ||
1、一種超薄太陽能級硅片,其本體(1)為由上、下兩平行平面(2、3)組成的方形薄片,其特征在于:方形薄片四角(4)為四個相同的45°倒角。
2、根據權利要求1所述的超薄太陽能級硅片,其特征在于:所述本體(1)的上、下兩平面(2、3)的距離在165μm-195μm范圍內,翹曲度小于75μm,表面光潔、平整、無瑕疵。
3、一種超薄太陽能級硅片切割工藝,其特征在于:切割工藝由圓形硅棒開方和方形硅棒切片二道工序組成;圓形硅棒開方切割工藝是將檢驗合格的圓形硅棒粘接在晶棒托上,而后安裝到硅晶棒開方機的工作臺上,經兩次開方和兩次倒角,切割出四角為四個相同的45°倒角的方形硅棒;開方和倒角時鋼線速度為9-12米/秒,工件速度600-800微米/分鐘;方形硅棒切片切割工藝是將開方后四角為四個相同45°倒角的方形硅棒經超聲清洗和高純氮氣吹干后,粘貼在玻璃板上,用2-2.5kg重的鐵塊壓緊2-3小時后,取下鐵塊,靜止放置8-10小時,而后安裝到多線切割機上進行切片;切片使用φ100-130μm鋼線,鋼線走線速度550-650米/分鐘,工件進給速度220-350μm/min,多線切割機導輪槽距320-345μm;切割時必需使用由懸浮液和金鋼砂攪拌均勻的砂漿。
4、根據權利要求3所述的一種超薄太陽能級硅片切割工藝,其特征在于砂漿密度為1.60-1.68克/立方厘米,砂漿流量為60-110L/min,砂漿溫度在20-30℃范圍內。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





