[發明專利]一種測量輻射和散射光場三維分布的裝置

無效

• 申請號: 200810017361.1
• 申請日: 2008-01-22
• 公開（公告）號: CN101285703A
• 公開（公告）日: 2008-10-15
• 發明（設計）人: 趙建林;任駒
• 申請（專利權）人: 西北工業大學
• 主分類號: G01J1/00
• 分類號: G01J1/00;G01J1/04;G02B6/32;G02B5/00
• 代理公司: 西北工業大學專利中心
• 代理人: 王鮮凱

1.一種測量輻射光場三維分布的裝置，其特征在于：裝置的組成包括鉆孔半球殼1、光纖2、鉆孔圓盤3、可調光闌6、透鏡5和CCD相機4；可調光闌6位于裝置底部，鉆孔半球殼1位于可調光闌6上，鉆孔圓盤3位于鉆孔半球殼1之上，二者之間通過若干光纖連接，透鏡5位于圓盤3之上，CCD相機4位于透鏡5之上；所述的可調光闌6的下表面與鉆孔半球殼1的赤道面重合，且可調光闌6下表面的中心與鉆孔半球殼1的球心重合；所述的鉆孔半球殼1、光纖2、鉆孔圓盤3、可調光闌6、透鏡5和成像系統沿裝置主軸同軸分布；所述的鉆孔半球殼1和鉆孔圓盤3上的孔數目相等且均勻分布，光纖數目等于鉆孔半球殼上的孔數和圓盤上的孔數。

2.一種測量散射光場三維分布的裝置，其特征在于：裝置的組成包括鉆孔半球殼(1)、光纖(2)、鉆孔圓盤(3)、可調光闌(6)、透鏡(5)、CCD相機(4)、光源系統(7)、光源功率監測器(8)和分束鏡(9)；可調光闌(6)位于裝置底部，鉆孔半球殼(1)位于可調光闌(6)上，鉆孔圓盤(3)位于鉆孔半球殼(1)之上，二者之間通過若干光纖連接，透鏡(5)位于圓盤3之上，CCD相機(4)位于透鏡(5)之上，在鉆孔圓盤(3)和透鏡(5)之間固定一個法線與裝置主軸成45度角的分束鏡(9)，光源系統(7)位于分束鏡(9)的一側，其光軸垂直于裝置主軸，光源功率監測器(8)與光源系統同軸且位于分束鏡(9)的另一側，其接收面正對光源輸出光束的中心且與光源系統固連；所述的光源系統7包括光源(18)、透鏡(15)、透鏡(17)和小孔(16)，其構成為：在透鏡(15與透鏡(17)之間設計小孔(16)，光源(18)固定在透鏡(15)一側；所述的可調光闌(6)的下表面與鉆孔半球殼(1)的赤道面重合，且可調光闌(6)下表面的中心與鉆孔半球殼(1)的球心重合；所述的鉆孔半球殼(1)、光纖(2)、鉆孔圓盤(3)、可調光闌(6)、透鏡(5)和成像系統沿裝置主軸同軸分布；所述的鉆孔半球殼(1)和鉆孔圓盤(3)上的孔數目相等且均勻分布，光纖數目等于鉆孔半球殼上的孔數和圓盤上的孔數。

3.根據權利要求1或2所述的測量輻射和散射光場三維分布的裝置，其特征在于：所述的鉆孔圓盤(3)上的孔距鉆孔圓盤(3)中心的距離正比于鉆孔半球殼(1)上的孔的軸線與裝置主軸的夾角，且兩對應孔的軸線與光纖軸線在同一平面內。

4.根據權利要求1或2所述的測量輻射和散射光場三維分布的裝置，其特征在于：所述的透鏡(5)到鉆孔圓盤(3)的距離大于透鏡(5)的兩倍焦距，透鏡(5)的孔徑大于鉆孔圓盤(3)的直徑。

5.根據權利要求1或2所述的測量輻射和散射光場三維分布的裝置，其特征在于：所述的CCD相機(4)靶面距離透鏡1倍焦距到2倍焦距之間。

6.根據權利要求1或2所述的測量輻射和散射光場三維分布的裝置，其特征在于：所述的鉆孔半球殼(1)上的圓孔(10)沿鉆孔半球殼(1)表面均勻分布，孔徑可取0.5mm～2mm，孔間距可取1mm～2mm，所有圓孔(10)的軸垂直于鉆孔半球殼(1)表面并指向球心。

7.根據權利要求1或2所述的測量輻射和散射光場三維分布的裝置，其特征在于：所述鉆孔半球殼(1)上的圓孔(10)的孔徑與鉆孔圓盤(3)上圓孔的孔徑與光纖(2)的直徑相等。

8.根據權利要求1或2所述的測量輻射和散射光場三維分布的裝置，其特征在于：所述的所述光纖(2)的兩個端面(11)為凸形聚光設計或在光纖兩端加裝與光纖同軸的自聚焦透鏡。

9.根據權利要求1或2所述的測量輻射和散射光場三維分布的裝置，其特征在于：所述的鉆孔半球殼(1)的內壁及圓孔(10)的內壁涂黑色吸光涂層。

10.根據權利要求1或2所述的測量輻射和散射光場三維分布的裝置，其特征在于：所述可調光闌(6)采用旋片式光闌。