[發(fā)明專利]非接觸長行程多自由度納米精密工作臺無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810017204.0 | 申請日: | 2008-01-02 |
| 公開(公告)號: | CN101520606A | 公開(公告)日: | 2009-09-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 毛軍紅;謝友柏 | 申請(專利權(quán))人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;H02K33/18;B25H1/00 |
| 代理公司: | 西安慈源有限責任專利事務所 | 代理人: | 潘憲曾 |
| 地址: | 710049*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 接觸 行程 自由度 納米 精密 工作臺 | ||
1.非接觸長行程多自由度納米精密工作臺,包括工作臺基座(1)和與工作臺基座(1)相配合的工作臺動件(2),其特征在于,在工作臺動件(2)下表面固定有位移傳感器(3、4、5、6),在工作臺動件(2)下表面還固定有線圈(7、8、9、10),工作臺動件(2)下表面中心固定有氣浮塊(11),所說的位移傳感器(3、4、5、6)和線圈(7、8、9、10)交替均勻布置,所說的線圈(7、8、9、10)和加工在工作臺動件(2)上的鐵心,分別構(gòu)成4個獨立的電磁驅(qū)動器,所說的氣浮塊(11)構(gòu)成1個靜壓空氣止推軸承。
2.根據(jù)權(quán)利1所說的納米精密工作臺,其特征在于,所說的位移傳感器(3、4、5、6)的端面與工作臺動件(2)的下表面在同一平面上,工作臺動件(2)上表面是一個完整平面工作臺平面。
3.根據(jù)權(quán)利1所說的納米精密工作臺,其特征在于,所說的工作臺基座(1)和工作臺動件(2)采用導磁材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所說的納米精密工作臺,其特征在于,從工作臺動件(2)的下表面加工了4個安裝線圈(7、8、9、10)的環(huán)形盲孔,中間的圓柱(18、19、20、21)是線圈(7、8、9、10)的鐵心,線圈(7、8、9、10)固定完成后,其端面不高出工作臺動件(2)的下表面,線圈(7、8、9、10)和工作臺動件(2)上的鐵心構(gòu)成4個獨立的電磁驅(qū)動器,電磁驅(qū)動器工作氣隙為鐵心圓柱頂面到工作臺動件(2)底面的距離,取值范圍在0.2mm-0.4mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所說的納米精密工作臺,其特征在于,工作臺動件(2)下表面的中央是一個空腔(22),在空腔(22)的中心安裝了氣浮塊(11),固定完成后,其軸承面與工作臺動件(2)的下表面在同一平面上,工作臺動件(2)的四周加工了排氣孔(23、24、25、26)使工作臺動件(2)外部和空腔(22)相通。
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