[發明專利]用于多路激光刻劃機的光功率均衡器有效
| 申請號: | 200810015832.5 | 申請日: | 2008-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN101271204A | 公開(公告)日: | 2008-09-24 |
| 發明(設計)人: | 孫嵩泉;陳良范;寧海洋;章新良 | 申請(專利權)人: | 蚌埠市普樂新能源有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01;B23K26/00;G02B5/30 |
| 代理公司: | 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 陸淑賢 |
| 地址: | 233030*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 激光 刻劃 功率 均衡器 | ||
1、一種用于多路激光刻劃機的光功率均衡器,其特征在于由控制器、依次放置在多路激光刻劃機初始激光光路中的偏振控制器、起偏器、分光片和在分光片反射光路中的光電探測器及依次放置在多路激光刻劃機下行實施刻劃的每個激光光路中的偏振控制器、檢偏器、分光片和在分光片反射光路中的光電探測器組成,放置在初始激光光路及每個下行實施刻劃激光光路中的各分光片反射光路中的光電探測器輸出信號進入控制器,控制器的輸出信號發送給設置在初始激光光路及各個下行實施刻劃光路中的偏振控制器。
2、根據權利要求1所述的用于多路激光刻劃機的光功率均衡器,其特征在于所述的放置在多路激光刻劃機初始激光光路中和下行實施刻劃的每個激光光路中的偏振控制器中偏振分光片可以采用晶片、光電陶瓷片或磁光晶體片。
3、根據權利要求1或2所述的用于多路激光刻劃機的光功率均衡器,其特征在于所述的放置在多路激光刻劃機初始激光光路中的起偏器和下行實施刻劃的每個激光光路中的檢偏器可以采用雙折射晶體、晶體棱鏡或者鍍膜晶片。
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