[發明專利]用于減小環形盤狀的構件的振動的方法及環形盤狀的構件

有效

• 申請號: 200810009612.1
• 申請日: 2008-02-13
• 公開（公告）號: CN101245816A
• 公開（公告）日: 2008-08-20
• 發明（設計）人: B·雷日克
• 申請（專利權）人: 盧克摩擦片和離合器兩合公司
• 主分類號: F16D3/14
• 分類號: F16D3/14
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 侯鳴慧

技術領域

本發明涉及一種用于減小總體上環形盤狀的構件的振動的方法， 該總體上環形盤狀的構件具有至少一個相對于該構件的軸線垂直地 指向的圓環盤狀的摩擦面。本發明還涉及一種具有這種摩擦面的環形 盤狀的構件。

背景技術

當在兩個構件之間存在滑動摩擦接觸時，振動、尤其是在聲頻范 圍中令人感到不舒適的振動是廣為流傳的問題。這種可聽到的振動的 一個典型例子是在制動器、離合器等上出現的尖銳噪聲。

發明內容

本發明的任務在于，提供一種用于在總體上環形盤狀的構件上出 現的尤其是處于聲頻范圍中的振動的補救措施，該環形盤狀的構件具 有至少一個相對于該構件的軸線垂直地指向的、與另一個構件處于滑 動摩擦接觸的圓環盤狀的摩擦面。

上述任務的第一個解決方案通過根據本發明的方法來實現，該方 法根據本發明以有利的方式被進一步構造。

本發明任務的另一個解決方案通過根據本發明的環形盤狀的構 件來實現。根據本發明的環形盤狀的構件根據本發明以有利的方式被 進一步構造。

根據本發明存在一種用于減小總體上環形盤狀的構件的振動的 本發明方法，該總體上環形盤狀的構件具有至少一個相對于該構件的 軸線垂直地指向的圓環盤狀的摩擦面，所述圓環盤狀的摩擦面由于相 對于一個配合構件的相對扭轉而與該配合構件處于滑動摩擦接觸，所 述方法在于，這樣構造該盤狀的構件，使得繞該盤狀的構件的軸線存 在的循環對稱性受到干擾。

當配合構件的圓環盤狀的摩擦面與環形盤狀的構件的圓環盤狀 的摩擦面處于摩擦接觸時，根據本發明的方法是特別有利的。

一種環形盤狀的構件，具有至少一個相對于該構件的軸線垂直地 指向的圓環盤狀的摩擦面，所述圓環盤狀的摩擦面在安裝位置中由于 相對于一個配合構件的相對扭轉而可與該配合構件形成滑動摩擦接 觸，根據本發明，該環形盤狀的構件被構造得繞其軸線的循環對稱性 受到干擾。

有利地，圓環盤狀的摩擦面構造有至少一個凹陷部，所述凹陷部 的深度是這樣的：在所述凹陷部的基底中不與相應的配合構件發生摩 擦接觸。

優選構造有多個在圓周方向上間隔開的凹陷部。

這些凹陷部延伸經過的圓周角度的總和有利地處于45度與180 度之間。

尤其合乎要求的是，這些凹陷部延伸經過的圓周角度的總和處于 120度與180度之間。

這些凹陷部的不對稱性尤其是通過下面的特征來實現：

m是凹陷部的數量，_i是凹陷部i(i＝1，…，m)在圓周方向上 的寬度，ψ_i(i＝1，…，m)是相鄰的凹陷部之間在圓周方向上的距離， 并且

_max＝max{_i}，_min＝min{_i}，i＝1，…，m，

ψ_max＝max{ψ_i}，ψ_min＝min{ψ_i}，i＝1，…，m，

則應滿足下面的條件：

-凹陷部的寬度的不對稱_max-_min＞10°，

-凹陷部之間的距離的不對稱ψ_max-ψ_min＞10°。

優選根據本發明的構件構造有兩個在軸向上間隔開的、相對于所 述軸線垂直地指向的摩擦面，這些摩擦面中的每一個在該構件的安裝 位置中與一個相應的配合構件處于滑動摩擦接觸，在相互之間壓緊的 情況下所述配合構件接收所述構件的至少一個部分區域，其中，這些 摩擦面中的至少一個構造有至少一個凹陷部。

本發明尤其適用于一個環形盤狀的構件，該環形盤狀的構件是一 個在雙質量飛輪的飛輪之間促成摩擦接觸的摩擦環。

附圖說明

下面借助于示意性附圖示例性地并且通過其它細節來描述本發 明。附圖表示：

圖1如在往復式活塞內燃機上使用的一個公知的雙質量飛輪 的半剖面，

圖2圖1在一個變換的實施形式中的細節視圖，

圖3一個摩擦環的立體視圖，

圖4用于說明一個摩擦盤的振動激勵的不同視圖，

圖5一個摩擦盤的成對出現的振動固有模態，