[發(fā)明專利]用于控制流到處理腔室的氣流的方法和裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810006331.0 | 申請(qǐng)日: | 2008-02-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101256936A | 公開(公告)日: | 2008-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 埃茲拉·羅伯特·古德;理查德·查爾斯·福韋爾;詹姆斯·帕特里克·克魯斯;賈里德·阿曼德·李;布拉諾·杰夫林;小道格拉斯·亞瑟·布赫伯格;馬丁·杰弗里·薩利納斯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/00 | 分類號(hào): | H01L21/00;C23C16/455;C30B25/14;H01J37/08;H01J37/317;H01J37/32;F17D1/04;F17D3/01;G05D7/06 |
| 代理公司: | 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐金國(guó) |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 控制 處理 氣流 方法 裝置 | ||
1、一種用于將氣體輸送到半導(dǎo)體處理系統(tǒng)的裝置,包含:
多個(gè)氣體輸入管道,其中每個(gè)輸入管道具有入口;
多個(gè)氣體輸出管道,其中每個(gè)輸出管道具有出口;
多個(gè)連接管道,每個(gè)連接管道耦接各自一對(duì)氣體輸入管道和氣體輸出管道;
多個(gè)連接閥,每個(gè)連接閥配置為控制經(jīng)過各自連接管道的流量;以及
多個(gè)氣體質(zhì)量流量控制器,每個(gè)氣體質(zhì)量流量控制器配置以控制進(jìn)入各自入口的流量。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述連接閥以柵格圖案排列,同時(shí)所述入口沿著所述柵格的第一軸排列并且所述出口沿著所述柵格的第二軸排列。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,多個(gè)連接管道為一個(gè)整體部件。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,進(jìn)一步包含:
第二整體部件,其耦接到第一整體部件;所述第二整體部件具有以柵格圖案排列的連接閥,其中所述第二整體部件的入口沿著所述柵格的第一軸排列,并且所述第二整體部件的出口沿著所述柵格的第二軸排列。
5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,進(jìn)一步包含:
校準(zhǔn)管路,耦接到至少一個(gè)出口。
6、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,進(jìn)一步包含:
至少一個(gè)感應(yīng)器,其與所述氣體輸出管道、所述氣體輸入管道或所述連接管道中至少一個(gè)接口,所述至少一個(gè)感應(yīng)器配置為提供表示流量、壓力或化學(xué)物質(zhì)的度量。
7、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,進(jìn)一步包含:
至少兩個(gè)可調(diào)閥,耦接到所述輸出口的第一輸出口,所述可調(diào)閥配置為劃分來自所述第一輸出口的流量。
8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述至少一個(gè)連接閥進(jìn)一步包含:
至少兩個(gè)可調(diào)閥,配置為劃分來自兩個(gè)或多個(gè)出口之間的一個(gè)輸入口的流量。
9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置,其特征在于,進(jìn)一步包含:
校準(zhǔn)管路,配置為用于校準(zhǔn)所述可調(diào)閥的有效開口面積,所述校準(zhǔn)是通過測(cè)量經(jīng)過所述閥的流量同時(shí)保持經(jīng)過所述閥的臨界(超聲速)流量實(shí)現(xiàn)的。
10、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述出口中至少之一耦接到旁通所述處理系統(tǒng)的設(shè)備排氣裝置。
11、根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述校準(zhǔn)管路進(jìn)一步包含:
流量限制器,具有類似于所述處理系統(tǒng)的流量限制。
12、根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,進(jìn)一步包含:
耦接到所述出口中至少之一的存儲(chǔ)容器。
13、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,進(jìn)一步包含:
至少一個(gè)感應(yīng)器,配置為提供所述存儲(chǔ)容器內(nèi)的流量、壓力或化學(xué)物質(zhì)的度量。
14、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)容器進(jìn)一步包含:
連接到所述處理系統(tǒng)的至少一個(gè)出口。
15、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)容器進(jìn)一步包含:
連接到第二處理系統(tǒng)的第二出口。
16、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)容器的所述入口還耦接到所述處理系統(tǒng)。
17、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)容器的至少一個(gè)出口經(jīng)過以第二柵格圖案排列的第二組連接閥而連接到所述處理系統(tǒng),其中所述第二柵格圖案的入口沿著所述第二柵格圖案的第一軸排列,并且所述第二柵格圖案的出口沿著所述第二柵格圖案的第二軸排列。
18、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)容器的出口經(jīng)過質(zhì)量流量控制器而連接到所述半導(dǎo)體處理系統(tǒng)。
19、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)容器的出口和所述氣體輸出管道的所述出口中至少一個(gè)出口連接到通往所述半導(dǎo)體處理系統(tǒng)的公共入口。
20、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,所述存儲(chǔ)容器連接到至少兩個(gè)分離的半導(dǎo)體處理系統(tǒng)。
21、根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于,進(jìn)一步包含:
二位閥,其流體耦接在所述存儲(chǔ)罐和設(shè)備排氣裝置之間,所述二位閥可在完全關(guān)閉、預(yù)設(shè)限制和完全打開之間轉(zhuǎn)換。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





