[發明專利]光波導器件以及行波型光學調制器

無效

• 申請號: 200810001595.7
• 申請日: 2004-08-19
• 公開（公告）號: CN101221296A
• 公開（公告）日: 2008-07-16
• 發明（設計）人: 近藤順悟;近藤厚男;青木謙治;三富修
• 申請（專利權）人: 日本礙子株式會社
• 主分類號: G02F1/035
• 分類號: G02F1/035;G02F1/225
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司
• 代理人: 許靜

1.一種光波導器件，具備光波導基板、保持該光波導基板的保持基體以及粘接上述光波導基板和上述保持基體的粘接層，其特征在于：

上述光波導基板由電光學材料做成，具備：具有相互面對的一個主面和另一個主面的厚度在30μm或其以下的平板狀基板主體、在該基板主體上設置的光波導以及在上述基板主體上設置的電極，利用上述粘接層粘接上述保持基體與上述基板主體的上述另一個主面，上述保持基體中的熱膨脹系數的最小值是上述基板主體中的熱膨脹系數的最小值的1/5倍或其以上，并且，上述保持基體中的熱膨脹系數的最大值是上述基板主體中的熱膨脹系數的5倍或其以下。

2.根據權利要求1所述的光波導器件，其特征在于：上述保持基體的粘接面為大致平坦的面，上述粘接層具有比上述電光學材料的介電常數更低的介電常數。

3.根據權利要求1或2所述的光波導器件，其特征在于：上述粘接層的厚度在200μm或其以下。

4.根據權利要求1～3任意一項所述的光波導器件，其特征在于：上述粘接層在上述光波導的形成區域粘接上述另一個主面和上述保持基體。

5.根據權利要求1～4任意一項所述的光波導器件，其特征在于：上述粘接層的厚度大致不變。

6.根據權利要求1～5任意一項所述的光波導器件，其特征在于：在上述光波導的形成區域，在上述另一個主面和上述保持基體之間設有低介電常數部分，該低介電常數部分具有比上述電光學材料的介電常數更低的介電常數。

7.根據權利要求1～6任意一項所述的光波導器件，其特征在于：上述保持基體由電光學材料做成。

8.根據權利要求7所述的光波導器件，其特征在于：上述保持基體是從由鈮酸鋰、鉭酸鋰、鈮酸鋰-鉭酸鋰固溶體以及鈮酸鉀鋰組成的組中選取的一種或一種以上的材質做成。

9.一種行波型光學調制器，其特征在于：具備權利要求1～8任意一項所述的光波導器件，利用上述電極施加用于調制在上述光波導中傳播的光的電壓。