[發明專利]用于評估掩模的被評估圖案的方法和系統

無效

• 申請號: 200810001014.X
• 申請日: 2008-01-10
• 公開（公告）號: CN101436216A
• 公開（公告）日: 2009-05-20
• 發明（設計）人: 伊謝·施瓦茨班德;肖穆里克·曼根;錢姆·布勞德;邁克爾·本-伊謝;加迪·格林伯格
• 申請（專利權）人: 以色列商·應用材料以色列公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50;G03F1/00;G03F1/14
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司
• 代理人: 徐金國

1.一種用于評估掩模的被評估圖案的方法，該方法包含：

模擬標稱圖案的多種變化以提供多個變異圖案；

計算多組矩；每組矩代表所述多個變異圖案中的變異圖案的圖像；

確定多種關系；每種關系聯系所述標稱圖案與變異圖案之間的差和多個標 稱矩與代表所述變異圖案的圖像的一組矩之間的差，和所述多個標稱矩代表標 稱圖案的圖像；

響應所述多種關系中的至少一種關系而確定映射函數；

利用所述映射函數接收或計算代表被評估圖案的圖像的多個矩；其中需要 用于代表多個矩的信息的占用空間小于形成被評估圖案的所述圖像的像素信 息的占用空間；以及

處理所述多個矩，以確定被評估圖案的至少一個形狀參數。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述處理步驟包含確定被 評估圖案的多個矩與多個標稱矩之間的矩差。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述確定步驟利用光學系 統的模型，該光學系統獲得被評估圖案的所述圖像。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述處理步驟包含響應相 應的矩差而確定被評估圖案和標稱圖案之間的圖案差。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，該方法包含響應映射矩差 到圖案差的映射函數而確定所述圖案差。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述映射函數為線性函數。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述處理步驟包含提供被 評估圖案的輪廓的表示，所述被評估圖案包含多個向量，每個向量平分由標稱 輪廓所限定的角度。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，該方法包含計算物體的多 個被評估圖案中的每個被評估圖案的形狀參數之間的差。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，該方法包含在不同的被評 估圖案的多個矩之間進行比較，以確定被評估圖案的至少一個形狀參數。

10.一種用于評估掩模的被評估圖案的系統，該系統包含：

用于模擬標稱圖案的多種變化以提供多個變異圖案的模擬模塊；

用于計算多組矩的矩計算器，每組矩代表所述多個變異圖案中的變異圖案 的圖像；

用于確定多種關系的確定模塊；每種關系聯系所述標稱圖案與變異圖案之 間的差和多個標稱矩與代表所述變異圖案的圖像的一組矩之間的差，以及所述 多個標稱矩代表標稱圖案的圖像；

用于響應所述多種關系中的至少一種關系而確定映射函數的確定模塊；

用于利用所述映射函數接收或計算代表被評估圖案的圖像的多個矩的接 收和計算模塊；其中需要用于代表多個矩的信息的占用空間小于形成被評估圖 案的所述圖像的像素信息的占用空間；以及

用于處理所述多個矩，以確定被評估圖案的至少一個形狀參數的處理模 塊。

11.根據權利要求10所述的系統，進一步包括：用于獲得被評估圖案的 所述圖像的光學系統；以及矩差計算器，所述矩差計算器用于通過利用獲得被 評估圖案的所述圖像的所述光學系統的模型來計算所述多個矩和由所述矩計 算器計算的所述多組矩之間的矩差。

12.根據權利要求10所述的系統，其特征在于，所述映射函數是線性映 射函數。

13.根據權利要求10所述的系統，進一步包括：用于提供包含多個向量 的被評估圖案的輪廓的表示的表示模塊，每個向量平分由標稱輪廓所限定的角 度。

14.根據權利要求10所述的系統，進一步包括：用于計算物體的多個被 評估圖案中的每個被評估圖案的形狀參數之間的差的計算模塊。