[發明專利]帶電粒子分析裝置有效
| 申請號: | 200780052915.5 | 申請日: | 2007-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN101669027A | 公開(公告)日: | 2010-03-10 |
| 發明(設計)人: | 西口克 | 申請(專利權)人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62;H01J49/06;H01J49/40 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 李貴亮 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 帶電 粒子 分析 裝置 | ||
1.一種帶電粒子分析裝置,具有帶電粒子光學系統,其為了形成用于 使帶電粒子以圓弧形狀飛行的扇形電場,含有將外側電極和內側電極作為 一對的主電極,該帶電粒子分析裝置,在所述外側電極上穿透設置了用于 使帶電粒子通過,或者用于使監視帶電粒子的狀態的電磁波或粒子線通過 的開口,其特征在于,
具有:電場修正電極,在所述開口的周圍,在面向由所述外側電極與 內側電極所夾的空間的位置上配置;
電壓施加機構,其對該電場修正電極施加規定的直流電壓;
通過所述電場修正電極,修正由所述開口所帶來的扇形電場的散亂,
所述開口形成在從離子光軸延伸的直線上,
所述帶電粒子、所述電磁波或所述粒子線沿著該直線從所述開口進行 入射或出射。
2.根據權利要求1所述的帶電粒子分析裝置,其特征在于
所述電場修正電極有多個,沿著通過所述開口入射出射的帶電粒子、 電磁波或者粒子線的直線狀的光軸排列。
3.根據權利要求2所述的帶電粒子分析裝置,其特征在于
所述電壓施加機構,能對多個所述電場修正電極獨立地施加直流電 壓。
4.根據權利要求1~3的任一項所述的帶電粒子分析裝置,其特征在 于
所述帶電粒子是離子,所述扇形電場形成使離子沿著同一軌道飛行多 次的旋轉軌道,
所述開口使離子從外部入射至該旋轉軌道,或使從該旋轉軌道脫離的 離子出射到外部。
5.根據權利要求4所述的帶電粒子分析裝置,其特征在于
在從所述主電極的端部入射至所述扇形電場或者從所述主電極的端 部出射的直線狀的入射出射光軸的延長線上形成所述開口,根據對所述主 電極的施加電壓,能夠選擇經過所述開口的離子的入射出射、和所述扇形 電場中的圓弧形狀的離子的飛行。
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