[發明專利]藍寶石基材及其制備方法

有效

• 申請號: 200780048629.1
• 申請日: 2007-12-21
• 公開（公告）號: CN101616772A
• 公開（公告）日: 2009-12-30
• 發明（設計）人: B·V·塔尼古拉;M·A·辛普森;P·欽納卡魯潘;R·A·瑞祖托;R·維丹瑟姆
• 申請（專利權）人: 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司
• 主分類號: B24B7/22
• 分類號: B24B7/22;B24B37/04;H01L21/20
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 顧 敏;王 穎

1.一種提供含藍寶石基材的藍寶石基材組的方法，其包括：

使用固定磨料研磨各藍寶石基材的表面，使第一表面具有c-平面取向， 其中研磨包括在藍寶石基材的表面上使用第一固定磨料或精研操作，和在 基材的表面上使用第二固定磨料，所述第二固定磨料比所述第一固定磨料 細小，所述第二固定磨料的平均粒度小于所述第一固定磨料的平均粒度， 其中藍寶石基材組含至少20個藍寶石基材，各藍寶石基材具有第一表面， 該第一表面具有(i)c-平面取向、(ii)晶體m-平面取向差角度，其定義為與晶 體m-平面的正交單位矢量(θ_m)和θ_m在由藍寶石基材的第一表面限定的平面 上的投影所定義的m-平面投影(M)之間的角度，和(iii)晶體a-平面取向差角 度，其定義為與晶體a-平面的正交單位矢量(θ_a)和θ_a在由藍寶石基材的第 一表面限定的平面上的投影所定義的a-平面投影(A)之間的角度，其中(a) 在基材組中所有基材的晶體m-平面取向差角度[[θ_m]]的標準偏差σ_m不大于 0.0130度和/或(b)在基材組中所有基材的晶體a-平面取向差角度[[θ_a]]的標 準偏差σ_a不大于0.0325度。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，σ_m不大于0.0110度。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，σ_m不大于0.0080度。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，σ_a不大于0.0325度。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，σ_a不大于0.0310度。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二固定磨料是自 修整的。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一固定磨料是自 修整的。

8.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括在用細 顆粒磨料研磨藍寶石基材的表面后對藍寶石基材的表面進行拋光。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，拋光所述基材的第一表 面包括使用研磨漿料拋光所述表面。

10.一種藍寶石基材組，其包含至少20個藍寶石基材，各藍寶石基 材具有第一表面，該第一表面具有(i)c-平面取向、(ii)晶體m-平面取向差角 度，其定義為與晶體m-平面的正交單位矢量(θ_m)和θ_m在由藍寶石基材的第 一表面限定的平面上的投影所定義的m-平面投影(M)之間的角度，和(iii)晶 體a-平面取向差角度，其定義為與晶體a-平面的正交單位矢量(θ_a)和θ_a在 由藍寶石基材的第一表面限定的平面上的投影所定義的a-平面投影(A)之間 的角度，其中(a)在基材組中所有基材的晶體m-平面取向差角度[[θ_m]]的標 準偏差σ_m不大于0.0130和/或(b)在基材組中所有基材的晶體a-平面取向差 角度[[θ_a]]的標準偏差σ_a不大于0.0325度。

11.如權利要求10所述的藍寶石基材組，其特征在于，σ_m不大于 0.0110度。

12.如權利要求11所述的藍寶石基材組，其特征在于，σ_m不大于 0.0080度。

13.如權利要求10所述的藍寶石基材組，其特征在于，σ_a不大于 0.0325度。

14.如權利要求13所述的藍寶石基材組，其特征在于，σ_a不大于 0.0310度。