[發明專利]利用鐳射形成金屬薄膜的裝置及方法有效
| 申請號: | 200780048403.1 | 申請日: | 2007-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN101611339A | 公開(公告)日: | 2009-12-23 |
| 發明(設計)人: | 金一鎬 | 申請(專利權)人: | 株式會社COWINDST;金一鎬 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 | 代理人: | 謝順星 |
| 地址: | 韓國仁*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 鐳射 形成 金屬 薄膜 裝置 方法 | ||
1.一種金屬薄膜形成裝置,其特征在于,包括:
鐳射振蕩器;
光束形成部件,使上述鐳射振蕩器發出的鐳射光束平坦,根據加 工目標物調整照射的鐳射光束的形狀和大小;
腔室,與上述加工目標物隔著一定間隔,利用金屬氣體和惰性氣 體混合后的氣體在加工目標物上形成金屬薄膜;
氣體供應部,提供上述金屬氣體和惰性氣體混合后的氣體;
排氣部,形成薄膜后排出殘留氣體。
2.如權利要求1所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述鐳 射振蕩器包括:第一鐳射振蕩器,用于消除加工目標物的絕緣膜、有 機膜、金屬膜或殘留層而形成槽;第二鐳射振蕩器,在上述槽內部形 成金屬薄膜并連接槽之間的金屬薄膜。
3.如權利要求2所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,第一鐳 射振蕩器產生脈沖波狀鐳射,第二鐳射振蕩器產生連續波狀鐳射。
4.如權利要求3所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述第 一鐳射振蕩器和第二鐳射振蕩器具有用于控制鐳射能量的光束調整 裝置。
5.如權利要求2所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述第 一鐳射振蕩器產生紅外線鐳射、可視光線鐳射或紫外線鐳射。
6.如權利要求2所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述第 二鐳射振蕩器產生比藍紫波長短的鐳射。
7.如權利要求2所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述第 一鐳射振蕩器產生的鐳射和第二鐳射振蕩器產生的鐳射形成在同一 光軸上。
8.如權利要求1所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述光 束形成部件包括將鐳射光束能量分布變換為平頂狀的光束整形器和 調整光束大小、形狀的光束狹縫。
9.如權利要求8所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述光 束狹縫包括調整光束大小的4個刀片和調整光束形狀的多個掩模圖 案。
10.如權利要求8所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述 光束整形器包括擴大光束大小的光束擴束器和使光束能量分布均勻 的均化器。
11.如權利要求1至10任一項所述的金屬薄膜形成裝置,其特征 在于,還包括實時監測步驟狀態的監測器。
12.如權利要求11所述的金屬薄膜形成裝置,其特征在于,上述 監測器包括自動調整鐳射焦點的焦點調整部和電荷耦合器攝像機。
13.一種金屬薄膜形成方法,其特征在于,當沉積于基板上的金 屬圖案被截斷時連接被截斷的金屬圖案,其方法包括:
照射第一鐳射消除在金屬圖案上形成的絕緣膜,形成可在金屬圖 案上沉積薄膜的第一連接槽和第二連接槽的步驟;
照射第二鐳射在上述槽填充金屬薄膜的步驟;
照射上述第二鐳射在上述槽之間形成金屬薄膜而連接的步驟。
14.如權利要求13所述的金屬薄膜形成方法,其特征在于,上述 第一鐳射為紅外線鐳射、可視光線鐳射或者紫外線鐳射中的任一個, 上述第二鐳射為比藍紫短波長的鐳射。
15.如權利要求13所述的金屬薄膜形成方法,其特征在于,形成 上述槽的步驟,調整第一鐳射輸出在形成槽時,使金屬圖案融化被粘 貼在槽壁上。
16.如權利要求13所述的金屬薄膜形成方法,其特征在于,形成 上述槽的步驟,依次照射第一鐳射或者利用掩模圖案同時照射第一鐳 射,以形成槽,或在槽填充金屬薄膜的步驟,依次照射第二鐳射或者 利用掩模圖案同時照射第二鐳射,以在槽填充金屬薄膜。
17.如權利要求13所述的金屬薄膜形成方法,其特征在于,連接 上述第一和第二連接槽的步驟包括直接連接第一、第二連接槽或者迂 回連接第一、第二連接槽的步驟。
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