[發(fā)明專利]被測(cè)物相對(duì)于傳感器的位置和/或位置變化的測(cè)定方法及測(cè)定用的傳感器裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200780047304.1 | 申請(qǐng)日: | 2007-12-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101563585A | 公開(公告)日: | 2009-10-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | V·蒙德尼科夫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 微-埃普西龍測(cè)量技術(shù)有限兩合公司 |
| 主分類號(hào): | G01D5/20 | 分類號(hào): | G01D5/20;G01D5/22;G01B7/00;H01H36/00;H03K17/95 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 李 玲 |
| 地址: | 德國(guó)奧*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 被測(cè)物 相對(duì)于 傳感器 位置 變化 測(cè)定 方法 裝置 | ||
1.一種被測(cè)物相對(duì)于傳感器的位置或位置變化的測(cè)定方法,其中所述傳感器 具有施加以交流電的傳感線圈,其特征在于,金屬薄片的磁導(dǎo)率變化由分配給軟磁金 屬薄片中被測(cè)物的磁鐵所產(chǎn)生,其磁導(dǎo)率在磁場(chǎng)的作用下隨磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)變化而變化并 安排在傳感器的作用范圍內(nèi),所述金屬薄片的磁導(dǎo)率變化由傳感器上的反饋來(lái)確定并 由其測(cè)定被測(cè)物相對(duì)于傳感器的位置或位置變化,并且磁場(chǎng)由以直流電激發(fā)的補(bǔ)償線 圈產(chǎn)生,通過(guò)磁場(chǎng)影響金屬薄片或部分金屬薄片的磁導(dǎo)率。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述直流電被調(diào)整以使得傳感線圈 建立基本上恒定的磁場(chǎng)。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,用以下步驟對(duì)傳感器進(jìn)行校準(zhǔn):
以步寬δh對(duì)在相對(duì)于傳感器的多個(gè)位置h上的被測(cè)物定位;
向傳感線圈供交流電;
測(cè)定每一位置上的傳感線圈的阻抗Z和/或相對(duì)阻抗變化ΔZ/Z;
確定傳感線圈的相對(duì)敏感度S對(duì)被測(cè)物的位置h的相關(guān)性特征,其中
確定特征中的位置h0,在該位置上假定相對(duì)敏感度S達(dá)最大值;
儲(chǔ)存復(fù)阻抗Z0的值,其相應(yīng)于在非易失性存儲(chǔ)器中的位置h0;
向補(bǔ)償線圈供直流電;
測(cè)定每一位置h上傳感線圈的阻抗Z和/或相對(duì)阻抗變化ΔZ/Z,其中所述傳感 線圈、所述補(bǔ)償線圈以及磁鐵的磁場(chǎng)都作用在金屬薄片上;
使直流電在測(cè)量范圍±Δh內(nèi)變化直至達(dá)到已儲(chǔ)存的阻抗目標(biāo)值;以及
確定直流電與被測(cè)物的位置變化的相關(guān)性。
4.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,用以下步驟對(duì)傳感器進(jìn)行校準(zhǔn):
以步寬δh對(duì)在相對(duì)于傳感器的多個(gè)位置h上的被測(cè)物定位;
向傳感線圈供交流電;
測(cè)定每一位置上的傳感線圈的阻抗Z和/或相對(duì)阻抗變化ΔZ/Z;
確定傳感線圈的相對(duì)敏感度S對(duì)被測(cè)物的位置h的相關(guān)性特征,其中
確定特征中的位置h0,在該位置上假定相對(duì)敏感度S達(dá)最大值;
儲(chǔ)存復(fù)阻抗Z0的值,其相應(yīng)于在非易失性存儲(chǔ)器中的位置h0;
向補(bǔ)償線圈供直流電;
測(cè)定每一位置h上傳感線圈的阻抗Z和/或相對(duì)阻抗變化ΔZ/Z,其中所述傳感 線圈、所述補(bǔ)償線圈以及磁鐵的磁場(chǎng)都作用在金屬薄片上;
使直流電在測(cè)量范圍±Δh內(nèi)變化直至達(dá)到已儲(chǔ)存的阻抗目標(biāo)值;以及
確定直流電與被測(cè)物的位置變化的相關(guān)性。
5.如權(quán)利要求1至4中任何一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,對(duì)阻抗或它的變化 進(jìn)行測(cè)定以檢測(cè)由所述金屬薄片的磁導(dǎo)率變化而在傳感線圈產(chǎn)生的反饋,其中確定 傳感線圈的復(fù)阻抗的實(shí)部Re{Z}和虛部Im{Z}以及其比率D=Re{Z}/Im{Z}。
6.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在跟蹤控制中通過(guò)閉合控制回路調(diào) 整經(jīng)補(bǔ)償線圈的直流電的大小。
7.如權(quán)利要求3或4所述的方法,其特征在于,在跟蹤控制中通過(guò)閉合控制回 路調(diào)整經(jīng)補(bǔ)償線圈的直流電的大小。
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G01D 非專用于特定變量的測(cè)量;不包含在其他單獨(dú)小類中的測(cè)量?jī)蓚€(gè)或多個(gè)變量的裝置;計(jì)費(fèi)設(shè)備;非專用于特定變量的傳輸或轉(zhuǎn)換裝置;未列入其他類目的測(cè)量或測(cè)試
G01D5-00 用于傳遞傳感構(gòu)件的輸出的機(jī)械裝置;將傳感構(gòu)件的輸出變換成不同變量的裝置,其中傳感構(gòu)件的形式和特性不限制變換裝置;非專用于特定變量的變換器
G01D5-02 .采用機(jī)械裝置
G01D5-12 .采用電或磁裝置
G01D5-26 .采用光學(xué)裝置,即應(yīng)用紅外光、可見光或紫外光
G01D5-42 .采用流體裝置
G01D5-48 .采用波或粒子輻射裝置
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