[發明專利]回收和再利用工藝氣體的方法和設備

無效

• 申請號: 200780047239.2
• 申請日: 2007-11-13
• 公開（公告）號: CN101663079A
• 公開（公告）日: 2010-03-03
• 發明（設計）人: W·H·惠特洛克
• 申請（專利權）人: 琳德股份有限公司
• 主分類號: B01D53/00
• 分類號: B01D53/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 白益華;王 穎

1.一種回收工藝氣體的方法，其包括：

在第一洗滌器中用水洗滌含工藝氣體的排氣流，得到第一洗滌流；

在第二洗滌器的催化劑床中用含水溶液洗滌第一洗滌流，得到第二洗滌流；

壓縮該第二洗滌流；

在熱交換器處理中干燥所述第二洗滌流；

過濾所述第二洗滌流，得到干燥的壓縮流；

進一步干燥所述干燥的壓縮流，得到超干流；

冷卻所述超干流，得到富含工藝氣體的液體回流流和工藝氣體減少的蒸氣流；

蒸餾所述液體回流流，回收基本上純的工藝氣體。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括處理所述蒸氣流以回收痕量的工藝氣體以及不含工藝氣體的排出流。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述工藝氣體是Xe、Kr、CF₄、C₂F₆、SF₆或NH₃。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述含水溶液是KOH、NaOH或H₂O₂。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述催化劑床是活性炭催化劑床或親水活性炭催化劑床。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述進一步干燥包括在膜干燥器中干燥。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，一部分干燥的壓縮流用作膜干燥器的吹掃氣。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，還包括將用作吹掃氣的干燥的壓縮流返回到第一洗滌器中。

9.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述進一步干燥包括使用吸附劑的壓力變動吸附過程。

10.如權利要求1所述的方法，其特征在于，冷卻所述超干流包括冷卻到比工藝氣體冰點高不到16℃的溫度。

11.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述溫度比工藝氣體冰點高不到3℃。

12.如權利要求1所述的方法，其特征在于，蒸餾包括從液體回流流中汽提高揮發性雜質，得到基本上純的液體回流流，還包括蒸發基本上純的液體回流流，得到基本上純的工藝氣體。

13.如權利要求1所述的方法，其特征在于，蒸餾包括在第一蒸餾塔中除去高揮發性雜質，在第二蒸餾塔中除去低揮發性雜質。

14.如權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括處理所述蒸氣流以分離任何痕量的工藝氣體。

15.如權利要求14所述的方法，其特征在于，所述處理包括壓力變動吸附過程或分子篩。

16.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述排氣流來自半導體加工。

17.一種回收工藝氣體的系統，其包括：

使用工藝氣體并產生排氣流的加工室；

接受排出氣并產生第一洗滌流的第一洗滌器；

接受第一洗滌流并產生第二洗滌流的第二洗滌器；

接受第二洗滌流并產生壓縮流的壓縮器；

接受壓縮流并產生干燥流的第一干燥器；

接受干燥流并產生干燥的過濾流的過濾器；

接受干燥的過濾流并產生超干流的第二干燥器；和

蒸餾裝置，其包括冷凝器，用于接受超干流并產生富含工藝氣體的液體回流流和工藝氣體減少的蒸氣流。

18.如權利要求17所述的系統，其特征在于，所述加工室是半導體器件加工室。

19.如權利要求17所述的系統，其特征在于，所述第一洗滌器是水洗滌器。

20.如權利要求17所述的系統，其特征在于，所述第二洗滌器是具有催化劑床的堿洗滌器。

21.如權利要求20所述的系統，其特征在于，所述催化劑床是活性炭催化劑床或親水活性炭催化劑床。

22.如權利要求17所述的系統，其特征在于，所述第二干燥器是膜干燥器。