[發(fā)明專利]透明導(dǎo)電薄膜的反應(yīng)性濺射沉積方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200780047064.5 | 申請日: | 2007-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN101563477A | 公開(公告)日: | 2009-10-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李洋平;葉洋;蔡容基;元泰景;安庫爾·凱達(dá)姆;盛殊然;李立偉 | 申請(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/00 | 分類號: | C23C14/00 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透明 導(dǎo)電 薄膜 反應(yīng) 濺射 沉積 方法 | ||
1、一種用于濺射沉積一透明導(dǎo)電氧化物層的方法,包括:
將一基板提供至一制程室中;
通過一第一濺射沉積步驟而在該基板上形成一透明導(dǎo)電氧化物層的一第一部分;以及
通過一第二濺射沉積步驟而形成該透明導(dǎo)電氧化物層的一第二部分。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中上述的形成該透明導(dǎo)電氧化物層的該第一部分的步驟可更包括:
供應(yīng)一第一氣體混合物至該制程室中;
濺射來自設(shè)置在該制程室中的一靶材的一來源物質(zhì);以及
經(jīng)濺射的該來源物質(zhì)與該第一氣體混合物產(chǎn)生反應(yīng)。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中上述的形成該透明導(dǎo)電氧化物層的該第二部分的步驟可更包括:
供應(yīng)一第二氣體混合物至該制程室中;
濺射來自該靶材的該來源物質(zhì);以及
經(jīng)濺射的該來源物質(zhì)與該第二氣體混合物產(chǎn)生反應(yīng)。
4、根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中上述的供應(yīng)該第一氣體混合物的步驟更包括:
供應(yīng)選自由O2、N2O、N2、Ar、He及H2O所組成的群組的該第一氣體混合物。
5、根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中該第一氣體混合物包括O2及Ar。
6、根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中該靶材是由下列至少其中之一者制成:鋅、鋅合金、鋅鋁合金、鋅鎵合金及陶瓷氧化鋅。
7、根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中上述的供應(yīng)該第一氣體混合物的步驟更包括:
在濺射期間調(diào)整該第一氣體混合物的一流速。
8、根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中上述的濺射來自該靶材的該來源物質(zhì)的步驟更包括:
施加一第一功率至該靶材。
9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中上述的施加該第一功率的步驟更包括:
在該第一濺射沉積步驟期間調(diào)整施加至該靶材的該第一功率。
10、根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中上述的形成該透明導(dǎo)電氧化物層的該第二部分的步驟更包括:
供應(yīng)選自由O2、N2O、N2、Ar、He及H2O所組成的群組的該第二氣體混合物。
11、根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中該第二氣體混合物包括O2及Ar。
12、根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中上述的供應(yīng)該第二氣體混合物的步驟更包括:
在濺射期間調(diào)整該第二氣體混合物的一流速。
13、根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中上述的濺射來自該靶材的該來源物質(zhì)的步驟更包括:
施加一第二功率至該靶材。
14、根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中上述的施加該第二功率的步驟更包括:
在該第二濺射沉積步驟期間調(diào)整施加至該靶材的該第二功率。
15、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中該透明導(dǎo)電氧化物層是用作為一光伏元件中的一背反射板。
16、一種用于濺射沉積一透明導(dǎo)電氧化物層的方法,包括:
將一基板提供至一制程室中;
供應(yīng)一氣體混合物至該制程室中;
濺射來自設(shè)置在該制程室中的一靶材的一來源物質(zhì)而沉積一透明導(dǎo)電氧化物層的一第一部分;
在濺射期間調(diào)整供應(yīng)至該制程室的該氣體混合物的一流速;以及
在該基板上形成該透明導(dǎo)電氧化物層的一第二部分。
17、根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中上述的濺射來自該靶材的該來源物質(zhì)的步驟更包括:
在濺射期間調(diào)整施加至該靶材的一功率。
18、根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中該透明導(dǎo)電氧化物層為氧化鋅層。
19、根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中該氣體混合物是選自由O2、N2O、N2、Ar、He及H2O所組成的群組。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
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