[發明專利]磁控管濺鍍電極以及配置有磁控管濺鍍電極的濺鍍裝置

有效

• 申請號: 200780042641.1
• 申請日: 2007-11-13
• 公開（公告）號: CN101589170A
• 公開（公告）日: 2009-11-25
• 發明（設計）人: 赤松泰彥;磯部辰德;新井真;清田淳也;小松孝
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京英特普羅知識產權代理有限公司
• 代理人: 齊永紅

1.一種磁控管濺鍍電極，其特征在于：在與處理基板相向配置的陰極靶的后面配置有磁鐵組合件，該磁鐵組合件具有沿長度方向線性配置的中央磁鐵，以及以圍繞中央磁鐵的形態配置的周邊磁鐵，以改變陰極靶一側的極性，在該磁鐵組合件的長度方向的端部，使產生于中央磁鐵和周邊磁鐵間的隧道形的各磁力線中磁場垂直成分為0的位置在一定范圍內向中央磁鐵一側移位。

2.根據權利要求1所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：使前述磁場的垂直成分為0的位置移位的范圍在中央磁鐵的一側，且在該中央磁鐵的兩端部上交錯存在。

3.根據權利要求1或2所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：使中央磁鐵或周邊磁鐵中的至少一方的磁力產生局部性強弱。

4.根據權利要求3所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：在前述中央磁鐵之中長度方向兩端部的側面上安裝規定長度的磁分流器。

5.根據權利要求1所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：前述周邊磁鐵由前述中央磁鐵兩側平行延伸的直線部以及橋接兩個直線部的彎折部構成，前述中央磁鐵和周邊磁鐵的各直線部為等間隔，且在前述磁鐵組合件的長度方向兩端部上，使中央磁鐵和各直線部的間隔比磁鐵組合件的中央區域的間隔窄，使前述磁場的垂直成分為0的位置移位。

6.根據權利要求5所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：使前述直線部的一方以及中央磁鐵的兩端部向另一方的直線部一側移動縮小中央磁鐵和周邊磁鐵的各直線部在磁鐵組合體的長度方向的兩端部處的間隔，使中央磁鐵和各直線部在兩端部的間隔比磁鐵組合體的中央區域的間隔窄，前述兩端部為旋轉對稱。

7.根據權利要求5或6所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：在前述中央磁鐵的兩端部中，另一直線部一側的側面上設置磁分流器。

8.根據權利要求6所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：前述另一方的直線部中與磁鐵組合件的長度方向的兩端部相向的部分中的至少一部向中央磁鐵一側移動。

9.根據權利要求6所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：前述另一方的直線部中與磁鐵組合件的長度方向的兩端部相向的部分中的至少一部的上面追加輔助磁鐵。

10.根據權利要求1、2或5中的任一項所述的磁控管濺鍍電極，其特征在于：配置有使前述磁鐵組合件沿陰極靶背面平行往返運動的驅動手段。

11.一種濺鍍裝置，其特征在于：在可真空排氣的濺鍍室內配置了權利要求1、2或5中的任一項所述的磁控管濺鍍電極，設有把規定氣體導入濺鍍室內的氣體導入手段，以及可給陰極靶提供電力的濺鍍電源。