[發明專利]薄膜形成方法及薄膜形成裝置有效
| 申請號: | 200780039552.1 | 申請日: | 2007-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN101528972A | 公開(公告)日: | 2009-09-09 |
| 發明(設計)人: | 大石祐一;小松孝;清田淳也;新井真 | 申請(專利權)人: | 株式會社愛發科 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京英特普羅知識產權代理有限公司 | 代理人: | 齊永紅 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 形成 方法 裝置 | ||
1.一種薄膜形成方法,其特征在于:給在濺鍍室內與處理基板彼此相向,且隔規定間 隔并列設置的多個陰極靶投入電力,通過濺鍍形成規定薄膜的薄膜形成方法之中,使各 陰極靶平行于處理基板,以一定速度往返運動的同時,使各陰極靶的前面分別形成隧道 形磁力線的磁鐵組合件分別平行于各陰極靶,以一定速度往返運動,當前述各陰極靶到 達折返位置時,使各陰極靶的往返運動在規定的時間內停止。
2.根據權利要求1所述的薄膜形成方法,其特征在于:前述陰極靶上的電力投入僅在 各陰極靶往返運動停止期間內進行。
3.根據權利要求1或2所述的薄膜形成方法,其特征在于:在規定時間內前述各陰極 靶停止往返運動期間,使磁鐵組合件至少往返一次。
4.根據權利要求1所述的薄膜形成方法,其特征在于:在前述并列設置的陰極靶中每 組成對的陰極靶上均以規定的頻率交替改變極性地外加交流電壓,使各陰極靶交替切換 為正電極、負電極,通過使正電極及負電極間產生輝光放電形成等離子氣氛,使各陰極 靶發生濺射。
5.一種薄膜形成裝置,其特征在于,配置有:多個陰極靶,其在濺鍍室內與處理基板 相向且隔規定間隔并列設置,在并列設置的各陰極靶中,以兩個為一對,把交流電源的 輸出電纜分別與成對的陰極靶連接;濺鍍電源,其可給各陰極靶投入電力;磁鐵組合件, 其在陰極靶的前面分別形成隧道形的磁力線;設有:第1驅動手段,其使各陰極靶以一 定速度沿陰極靶的并列設置方向往返運動;第2驅動手段,其使磁鐵組合件平行于陰極 靶往返運動;還設有前述陰極靶到達往返運動的折返位置時使各陰極靶的往返運動在規 定的時間內停止的停止手段。
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