[發明專利]生成合成波長的方法和裝置

有效

• 申請號: 200780032245.0
• 申請日: 2007-09-26
• 公開（公告）號: CN101512286A
• 公開（公告）日: 2009-08-19
• 發明（設計）人: 塞巴斯蒂安·李·弗洛克;伊斯·薩爾瓦德;托馬斯·延森;馬塞爾·羅納
• 申請（專利權）人: 萊卡地球系統公開股份有限公司
• 主分類號: G01B9/02
• 分類號: G01B9/02
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 黃綸偉

1.一種生成合成波長的方法，其中主激光源限定了主頻υ₀和所述主 頻υ₀的至少第一邊帶頻率υ₁，所述方法包括以下步驟：

由第一激光源提供具有所述第一邊帶頻率υ₁和相應的第一波長的 激光輻射，

通過結合所述第一波長和由所述主激光源限定的第二波長來生成所 述合成波長，

其特征在于：

連續偏移所述第一邊帶頻率υ₁。

2.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于：通過疊加來生成所述合成波長。

3.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于：通過調制所述主激光源來連續偏移所述第一邊帶頻率 υ₁。

4.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于：所述生成合成波長的方法是用于干涉法距離測量結構 的方法。

5.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于：

至少一個第一激光源發出具有所述第一波長的激光輻射，并且使所 述至少一個第一激光源注入鎖定在所述第一邊帶頻率υ₁上。

6.根據權利要求1至5中的任意一項所述的方法，

其特征在于：

所述第二波長對應于所述主頻υ₀。

7.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于：

生成具有所述主頻υ₀的第二邊帶頻率υ₂的激光輻射，以及

使發出具有所述第二波長的激光輻射的第二激光源注入鎖定在所述 第二邊帶頻率υ₂上。

8.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于：

第二激光源生成具有所述主頻υ₀的第二邊帶頻率υ₂的激光輻射作 為所述第二波長，以及

使所述主激光源注入鎖定在所述第二邊帶頻率υ₂上。

9.根據權利要求7或8所述的方法，

其特征在于：

所述第一邊帶頻率υ₁和第二邊帶頻率υ₂分別是所述主頻υ₀的第一 下邊帶頻率和第一上邊帶頻率。

10.根據權利要求7或8所述的方法，

其特征在于：

所述第一激光源和所述第二激光源為分布反饋激光器，以及

所述主激光源為強度調制電吸收激光器或垂直腔表面發射激光器，

其中電吸收激光器的調制頻率和施加到所述第一激光源和所述第二 激光源的電流同步變化，以使得所述分布反饋激光器的鎖定范圍與所述 邊帶頻率υ₁和υ₂相適應。

11.根據權利要求1至5中的任意一項所述的方法，

其特征在于

所述主激光源產生具有所述第一邊帶頻率υ₁的激光輻射和作為所 述第二波長的具有所述主頻υ₀的第二邊帶頻率υ₂的激光輻射，以及

抑制具有所述主頻υ₀的激光輻射。

12.一種雙波長或多波長干涉測量方法，其利用可變合成波長測量距 離，其中所述合成波長按照前述任意一項權利要求所述的方法生成。