[發明專利]LED半導體本體無效
| 申請號: | 200780028579.0 | 申請日: | 2007-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN101496187A | 公開(公告)日: | 2009-07-29 |
| 發明(設計)人: | G·格羅寧格;C·瓊;P·海德博恩;A·貝雷斯 | 申請(專利權)人: | 奧斯蘭姆奧普托半導體有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李少丹;劉春元 |
| 地址: | 德國雷*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | led 半導體 本體 | ||
1.一種LED半導體本體(1),具有半導體層序列,該半導體層序 列包括為產生非相干的輻射而設計的量子結構(2),該量子結構帶有 至少一個量子層(3)和至少一個勢壘層(4),其中所述量子層(3) 和勢壘層(4)以彼此相反的符號而應變。
2.根據權利要求1所述的LED半導體本體,其中所述LED半導體 本體(1)實施為薄膜半導體本體。
3.根據權利要求1或2所述的LED半導體本體,其中所述量子層 (3)是壓應變的而所述勢壘層(4)是張應變的。
4.根據權利要求1至3中的至少一項所述的LED半導體本體,其 中所述勢壘層(4)的應變在數值上小于所述量子層(3)的應變。
5.根據權利要求4所述的LED半導體本體,其中所述勢壘層(4) 的應變的數值是在所述量子層(3)的應變的數值的0.2至0.67倍之間 的值,其中包含端點值,優選的是在0.33至0.5倍之間的值,其中包含 端點值。
6.根據權利要求1至5中的至少一項所述的LED半導體本體,其 中所述勢壘層(4)的厚度與所述量子層(3)的厚度的比例大于或等于 1,優選大于或等于1.5,特別優選的是大于或等于2.5。
7.根據權利要求1至6中的至少一項所述的LED半導體本體,其 中所述勢壘層(4)的厚度為5nm或更大,優選為10nm或更大,特別 優選為20nm或更大。
8.根據權利要求1至7中的至少一項所述的LED半導體本體,其 中所述量子層(3)包含InyGa1-yAs,其中0≤y≤0.5,優選的是0.05≤y≤0.3, 特別優選的是0.1≤y≤0.2。
9.根據權利要求1至8中的至少一項所述的LED半導體本體,其 中所述應變的勢壘層(4)包含AlxGa1-xAs1-zPz,其中0.01≤x≤1,優選的 是0.1≤x≤0.6,特別優選的是0.2≤x≤0.4和/或0.01≤z≤0.5,優選的是 0.03≤x≤0.3,特別優選的是0.05≤x≤0.2。
10.根據權利要求1至9中的至少一項所述的LED半導體本體,其 中所述量子結構(2)具有另外的量子層(3)和另外的勢壘層(4), 并且所述另外的量子層(3)和另外的勢壘層(4)同樣以彼此相反的符 號應變。
11.根據權利要求10所述的LED半導體本體,其中所述另外的量 子層(3)和/或另外的勢壘層(4)根據權利要求3至9中的特征的至少 之一來實施。
12.根據權利要求10或11所述的LED半導體本體,其中應變的量 子層(3)和應變的勢壘層(4)在量子結構(2)中以交替的順序相疊 設置。
13.根據權利要求1至12中的至少一項所述的LED半導體本體, 其中所述量子結構(2)的平均應變為2000ppm或者更小,優選為 1000ppm或者更小,特別優選為500ppm或者更小。
14.根據權利要求1至13中的至少一項所述的LED半導體本體, 其中所述半導體本體(1)設置在承載體(70)上。
15.根據權利要求14所述的LED半導體本體,其中所述承載體(70) 與所述半導體本體(1)的生長襯底不同。
16.根據權利要求14或15所述的LED半導體本體,其中在所述承 載體(70)和所述半導體本體(1)之間設置有反射層(72)。
17.根據權利要求16所述的LED半導體本體,其中所述反射層(72) 以金屬方式實施。
18.根據權利要求1至17中的至少一項所述的LED半導體本體, 其中所述量子結構(2)被設計用于產生輻射,所述輻射的峰值波長在 750nm至1050nm的波長范圍中,其中包含端點值。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于奧斯蘭姆奧普托半導體有限責任公司,未經奧斯蘭姆奧普托半導體有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200780028579.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:具有改進機械強度的高臨界溫度超導制品
- 下一篇:全硅化柵電極及其制造方法





