[發(fā)明專利]敷抹器單元

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200780025008.1
• 申請日: 2007-06-28
• 公開（公告）號: CN101484039A
• 公開（公告）日: 2009-07-15
• 發(fā)明（設計）人: R·F·維齊;J·D·克羅斯;R·珀金斯
• 申請（專利權）人: 諾瓦提斯公司
• 主分類號: A45D34/04
• 分類號: A45D34/04;B65D47/20;B05B11/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所
• 代理人: 吳 鵬;秘鳳華

1.一種用于向表面敷抹物質的敷抹器單元，該敷抹器單元包括：

體部單元，可壓縮的容器在使用時附接到該體部單元；和

出口單元，該出口單元包括敷抹器元件和閥構件，物質被分配到該敷抹器元件，該閥構件相對于該敷抹器元件可移動地設置在第一、關閉構型和第二、打開構型之間，在該第一、關閉構型該出口單元被關閉，在該第二、打開構型該出口單元被打開以便在該容器和該敷抹器元件之間建立連通路徑，其中該閥構件構造成在向容器加壓時移動到打開構型，從而實現(xiàn)物質到敷抹器元件的分配。

2.根據(jù)權利要求1所述的敷抹器單元，其特征在于，所述容器是可壓縮容器，其中在對容器加壓時該容器被壓縮。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的敷抹器單元，其特征在于，所述敷抹器元件和閥構件包括配對密封元件，該配對密封元件在該敷抹器元件和該閥構件處于關閉構型時密封接合，而在該敷抹器元件和該閥構件處于打開構型時分離。

4.根據(jù)權利要求3所述的敷抹器單元，其特征在于，該敷抹器元件包括體部部分和敷抹器末端，該體部部分包括圍繞該體部部分設置的環(huán)形支座元件，該敷抹器末端從該體部部分延伸，并且該閥構件包括環(huán)形部分并且包括環(huán)形支座元件，該環(huán)形部分可滑動地設置在該敷抹器元件的體部部分上，其中這些支座元件在該敷抹器元件與該閥構件處于關閉構型時密封接合，而在該敷抹器元件與該閥構件處于打開構型時分離，以便建立用于將物質傳送到敷抹器末端的流體通路。

5.根據(jù)權利要求4所述的敷抹器單元，其特征在于，該敷抹器末端包括刃片。

6.根據(jù)權利要求5所述的敷抹器單元，其特征在于，該敷抹器末端包括至少一個敷抹表面。

7.根據(jù)權利要求6所述的敷抹器單元，其特征在于，該敷抹器末端包括至少一個管道槽，該管道槽從該環(huán)形支座延伸到該至少一個敷抹表面，從而優(yōu)選地將物質引到該敷抹表面。

8.根據(jù)權利要求6或7所述的敷抹器單元，其特征在于，該敷抹器末端包括第一和第二相對定向的敷抹表面。

9.根據(jù)權利要求4所述的敷抹器單元，其特征在于，該敷抹器末端包括多孔元件。

10.根據(jù)權利要求4所述的敷抹器單元，其特征在于，該敷抹器末端包括毛刷元件。

11.根據(jù)權利要求1至10中任一項所述的敷抹器單元，其特征在于，該敷抹器單元還包括蓋，所述蓋能夠裝配到該體部單元上以便包封該敷抹器元件。

12.根據(jù)權利要求11所述的敷抹器單元，其特征在于，所述蓋構造成當裝配到該體部單元上時接合該閥構件，從而將該敷抹器元件和閥構件鎖定在關閉構型。

13.根據(jù)權利要求12所述的敷抹器單元，其特征在于，該閥構件包括環(huán)形支座元件，并且所述蓋包括具有用于接納該敷抹器元件的開口端的凹腔和圍繞該凹腔的開口端設置的環(huán)形支座元件，其中這些環(huán)形支座元件構造成當所述蓋被裝配到該體部單元上時，這些環(huán)形支座元件密封接合，并且該敷抹器元件和閥構件被鎖定在關閉構型。

14.根據(jù)權利要求1至13中任一項所述的敷抹器單元，其特征在于，該出口單元包括用于將敷抹器元件和閥構件偏壓到關閉構型的偏壓元件。

15.根據(jù)權利要求1至14中任一項所述的敷抹器單元，其特征在于，該出口單元包括支承構件和密封構件，該敷抹器元件從該支承構件延伸，該支承構件包括與容器流體連通的內表面、與大氣流體連通的外表面以及提供進入容器的放氣路徑的至少一個通氣孔；該密封構件設置于支承構件的內表面以便正常地關閉該至少一個通氣孔，并且在容器中壓力減小的情況下允許空氣流入容器。

16.根據(jù)權利要求15所述的敷抹器單元，其特征在于，該密封構件包括彈性構件，該彈性構件正常地覆蓋該至少一個通氣孔，并且能夠偏轉以便打開該至少一個通氣孔。

17.根據(jù)權利要求15或16所述的敷抹器單元，其特征在于，該閥構件包括支座元件，該支座元件構造成當該敷抹器元件和閥構件處于關閉構型時覆蓋該支承構件的外表面并且關閉該至少一個通氣孔，并且當該敷抹器元件和閥構件處于打開構型時與該支承構件的外表面分離，以便允許空氣通過該至少一個通氣孔流入該容器。