[發(fā)明專利]飽和光學(xué)器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200780018200.8 | 申請日： | 2007-05-23 |
| 公開（公告）號： | CN101449195A | 公開（公告）日： | 2009-06-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 里吉斯·S·凡;愛德華·R·道斯基;肯尼思·S·庫貝拉 | 申請（專利權(quán)）人： | 全視CDM光學(xué)有限公司 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00;G02B5/32;G03H1/22 |
| 代理公司： | 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 余 朦;王艷春 |
| 地址： | 美國科*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 飽和 光學(xué) 器件 | ||
1.一種用于對電磁能量進行成像的成像系統(tǒng)，包括：
探測器，其用于接收所述電磁能量并根據(jù)所接收的所述電磁能量 生成抽樣數(shù)據(jù)，所述探測器由閾值點來表征，使得所述抽樣數(shù)據(jù)處于 兩個狀態(tài)中的一個：i)當所接收的所述電磁能量的強度小于所述閾值 點時，所述抽樣數(shù)據(jù)低于閾值；ii)當所述電磁能量大于所述閾值點時， 所述抽樣數(shù)據(jù)高于閾值；以及
飽和光學(xué)器件，其用于提供所述抽樣數(shù)據(jù)的特征，
所述飽和光學(xué)器件包括八等分對稱的八個扇區(qū)的排列，
其中，所述扇區(qū)中的每一個均由表面垂度來表征，所述表面垂度 由沿著與來自所述飽和光學(xué)器件的中心的徑向矢量相垂直的直線的一 維函數(shù)來描述，所述徑向矢量具有位于飽和光學(xué)器件的中心處的原點 x＝0并在x＝xmax處穿過扇區(qū)弦線的中點，在扇區(qū)內(nèi)，所有沿著與所 述徑向矢量相垂直的直線段上的表面垂度都限定為具有相同的值，
其中，所述一維函數(shù)包括：
sag(x)＝-2x+2x9，
其中，并且對于x＞xmax， sag(x)＝sag(xmax)，
其中，所述抽樣數(shù)據(jù)低于閾值時的特征不同于當所述抽樣數(shù)據(jù)高 于閾值時的特征。
2.如權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中，所述抽樣數(shù)據(jù)包括抽樣 的點分布函數(shù)PSF。
3.如權(quán)利要求2所述的成像系統(tǒng)，其中，當高于閾值時，所述抽 樣的PSF是飽和的。
4.如權(quán)利要求3所述的成像系統(tǒng)，其中，當高于閾值時，所述抽 樣的PSF呈現(xiàn)出圓形輪廓和封閉輪廓中的一個。
5.如權(quán)利要求3所述的成像系統(tǒng)，由視場表征，其中，當所述抽 樣的PSF飽和時，所述抽樣的PSF對于位于所述視場內(nèi)的高照度物體 和位于所述視場外的高照度物體呈現(xiàn)不同的特征。
6.如權(quán)利要求3所述的成像系統(tǒng)，由視場表征，其中，當所述抽 樣的PSF飽和時，所述抽樣的PSF對于位于所述視場內(nèi)不同位置處的 高照度物體呈現(xiàn)不同的特征。
7.如權(quán)利要求6所述的成像系統(tǒng)，包括出現(xiàn)在其內(nèi)的雜散的電磁 能量，還包括信號處理器，所述信號處理器用于根據(jù)所述抽樣的PSF 修改與所述雜散的電磁能量相關(guān)聯(lián)的所述抽樣數(shù)據(jù)的一部分。
8.如權(quán)利要求2所述的成像系統(tǒng)，還包括用于根據(jù)所述抽樣的 PSF處理所述抽樣數(shù)據(jù)的信號處理器。
9.如權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中，飽和光學(xué)器件包括用于 將所述電磁能量引向所述探測器的成像光學(xué)器件和用于修改所述電磁 能量的波前的相位修改光學(xué)器件。
10.如權(quán)利要求9所述的成像系統(tǒng)，其中，所述相位修改光學(xué)器 件通常與所述成像光學(xué)器件一體形成。
11.如權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中，所述扇區(qū)中的每個均 進一步至少包括具有不同表面輪廓的內(nèi)部區(qū)域和外部區(qū)域，所述內(nèi)部 區(qū)域的表面垂度由所述一維函數(shù)的多項式表示，所述外部區(qū)域是一致 且恒定的。
12.如權(quán)利要求11所述的成像系統(tǒng)，其中，所述扇區(qū)的所述外部 區(qū)域用平滑函數(shù)修改。
13.如權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，其中，所述平滑函數(shù)包括S 形。
14.如權(quán)利要求13所述的成像系統(tǒng)，其中，所述S形包括余誤差 函數(shù)(“erfc”)。
15.如權(quán)利要求2所述的成像系統(tǒng)，其中，當所述數(shù)據(jù)高于閾值 時，所述抽樣的PSF呈現(xiàn)出預(yù)定的圖案。
16.如權(quán)利要求15所述的成像系統(tǒng)，其中，所述預(yù)定的圖案包括 星形和數(shù)字水印中的一種。
17.如權(quán)利要求16所述的成像系統(tǒng)，其中，通過用離軸和場外的 照明來照明所述成像系統(tǒng)，所述數(shù)字水印是可見的。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于全視CDM光學(xué)有限公司，未經(jīng)全視CDM光學(xué)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200780018200.8/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
