[發明專利]用于半導體工藝的腔衰蕩光譜儀

無效

• 申請號: 200780017801.7
• 申請日: 2007-03-13
• 公開（公告）號: CN101454655A
• 公開（公告）日: 2009-06-10
• 發明（設計）人: B·E·科爾;Y·古
• 申請（專利權）人: 霍尼韋爾國際公司
• 主分類號: G01N21/39
• 分類號: G01N21/39;G01J3/42
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 張雪梅;王小衡

1.用于測量半導體薄膜工藝中的氣體的裝置，這種裝置包括：

置于薄膜工藝環境內的光學諧振器；

以該氣體的特征頻率激勵該光學諧振器的可調諧激光器；

檢測諧振器內能量的檢測器。

2.如權利要求1中的用于測量氣體的裝置，進一步包括基于所檢 測能量的衰蕩速率來檢測該氣體的濃度的處理器。

3.如權利要求2中的用于測量氣體的裝置，進一步包括置于可調 諧激光器和光學諧振器之間的開閉裝置，該開閉裝置周期性地中斷來自 光學諧振器的光能量。

4.如權利要求2中的用于測量氣體的裝置，其中處理器進一步包 括用于將諧振器的衰蕩速率和該氣體的衰蕩輪廓的曲線相匹配的曲線 匹配處理器。

5.如權利要求2中的用于測量氣體的裝置，其中處理器進一步包 括預定氣體的衰蕩速率的查找表。

6.如權利要求1中的用于測量氣體的裝置，其中薄膜工藝進一步 包括薄膜工藝室。

7.如權利要求6中的用于測量氣體的裝置，進一步包括在薄膜工 藝室外壁中的光學透明窗。

8.如權利要求7中的用于測量氣體的裝置，進一步包括置于薄膜 工藝室外部并通過光學透明窗激勵諧振器的激光器。

9.如權利要求7中的用于測量氣體的裝置，進一步包括置于薄膜 工藝室外部并通過光學透明窗接收諧振器的光學信號的檢測器。

10.如權利要求9中的用于測量氣體的裝置，其中諧振器進一步包 括布置以沿著三角形路徑反射諧振的光學信號的三個光學反射器。

11.如權利要求10中的用于測量氣體的裝置，進一步包括該三個 光學反射器中鄰近光學透明窗布置的光學反射器。

12.如權利要求10中的用于測量氣體的裝置，進一步包括用于將 該三個光學反射器之間的距離調節到該氣體的特征頻率的整數倍的隨 動裝置。

13.用于測量半導體薄膜工藝室中的預定氣體的量的裝置，這種裝 置包括：

薄膜工藝室；

置于薄膜工藝室內的光學諧振器；

以預定氣體的吸收波長激勵光學諧振器的可調諧激光器

用于在激勵后檢測諧振器的衰蕩速率的檢測器；和

用于基于所檢測的諧振器衰蕩速率確定薄膜工藝室中氣體的量的 處理器。

14.如權利要求13中的用于測量氣體的裝置，進一步包括在薄膜 工藝室外壁中的光學透明窗。

15.如權利要求14中的用于測量氣體的裝置，進一步包括置于薄 膜工藝室外部并通過光學透明窗激勵諧振器的激光器。

16.如權利要求14中的用于測量氣體的裝置，進一步包括置于薄 膜工藝室外部并通過光學透明窗接收諧振器的光學信號的檢測器。

17.如權利要求16中的用于測量氣體的裝置，其中諧振器進一步 包括布置以沿著三角形路徑反射諧振光學信號的三個光學反射器。

18.如權利要求17中的用于測量氣體的裝置，進一步包括該三個 光學反射器中鄰近光學透明窗設置的光學反射器。

19.如權利要求18中的用于測量氣體的裝置，進一步包括通過光 學透明窗與三角形路徑的第一邊和鄰近光學透明窗的該一個光學反射 器共軸對齊的激光器。

20.如權利要求18中的用于測量氣體的裝置，進一步包括通過光 學透明窗與三角形路徑的第二邊和鄰近光學透明窗的該一個光學反射 器共軸對齊的檢測器。

21.如權利要求13中的用于測量氣體的裝置，其中處理器進一步 包括預定氣體的衰蕩速率的查找表。

22.如權利要求13中的用于測量氣體的裝置，其中處理器進一步 包括用于將所檢測的諧振器衰蕩速率和該預定氣體的衰蕩輪廓中的曲 線相匹配的曲線匹配處理器。

23.用于測量半導體薄膜工藝中的氣體的裝置，這種裝置包括：

在薄膜工藝室外壁中的光學透明窗；

置于薄膜工藝室內的光學諧振器；

置于薄膜工藝室外部并通過光學透明窗激勵光學諧振器的可調諧 激光器；

置于薄膜工藝室外部并檢測衰蕩時間的檢測器；和

用于基于諧振器的衰蕩時間確定薄膜工藝室中氣體的查找表。