[發(fā)明專利]氧化物粒子的制造方法、漿料、研磨劑和基板的研磨方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200780014174.1
• 申請(qǐng)日: 2007-04-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101426730A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-05-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 櫻田剛史;保坂大佑;茅根環(huán)司
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日立化成工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C01F17/00
• 分類號(hào): C01F17/00;B24B37/00;H01L21/304
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 鐘 晶

1.一種氧化物粒子的制造方法，其特征在于，包含：

將金屬的碳酸鹽和酸進(jìn)行混合得到混合物的工序，

加熱所述混合物來(lái)得到金屬氧化物的工序，

粉碎所述金屬氧化物的工序。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化物粒子的制造方法，其中，金屬的碳酸鹽為碳酸鈰。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氧化物粒子的制造方法，其中，酸在25℃為固體。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氧化物粒子的制造方法，其中，酸在25℃為粉末狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的氧化物粒子的制造方法，其中，酸是有機(jī)酸。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氧化物粒子的制造方法，其中，有機(jī)酸由碳原子、氧原子和氫原子構(gòu)成。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的氧化物粒子的制造方法，其中，有機(jī)酸的酸解離常數(shù)pKa比碳酸的酸解離常數(shù)pKa₁小。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氧化物粒子的制造方法，其中，有機(jī)酸的酸解離常數(shù)pKa為6以下。

9.根據(jù)權(quán)利要求5～8中任一項(xiàng)所述的氧化物粒子的制造方法，其中，有機(jī)酸為從琥珀酸、丙二酸、檸檬酸、酒石酸、蘋果酸、草酸、馬來(lái)酸、己二酸、水楊酸、苯甲酸、苯二甲酸、乙醇酸、抗壞血酸、它們的異構(gòu)體、聚合物或共聚物、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸中選出的至少一種。

10.根據(jù)權(quán)利要求5～9中任一項(xiàng)所述的氧化物粒子的制造方法，其中，金屬的碳酸鹽為碳酸鈰，有機(jī)酸為草酸，碳酸鈰和草酸的混合比為：相對(duì)于1摩爾的碳酸鈰，草酸為0.5～6摩爾。

11.一種漿料，其特征在于，含有分散于水性介質(zhì)中的由權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的氧化物粒子的制造方法所得到的金屬氧化物粒子。

12.一種研磨劑，其特征在于，含有分散于水性介質(zhì)中的金屬為鈰且酸為草酸的由權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的氧化物粒子的制造方法所得到的氧化鈰粒子。

13.一種研磨劑，其特征在于，在水性介質(zhì)中含有粉碎后的氧化鈰的粒子，所述氧化鈰是加熱碳酸鈰和草酸的混合物而得到的。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的研磨劑，其中，氧化鈰粒徑的中值為100～2000nm。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的研磨劑，其中，粒徑3μm以上的氧化鈰粒子在固體中為500ppm以下。

16.根據(jù)權(quán)利要求14或15中任一項(xiàng)所述的研磨劑，其中，進(jìn)一步含有分散劑。

17.根據(jù)權(quán)利要求14～16中任一項(xiàng)所述的研磨劑，其中，全部氧化鈰粒子中，99體積％的氧化鈰粒子的粒徑為1.0μm以下。

18.一種基板的研磨方法，其特征在于，用權(quán)利要求12～17中任一項(xiàng)所述的研磨劑研磨規(guī)定的基板。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的基板的研磨方法，其中，規(guī)定的基板是至少形成有氧化硅膜的半導(dǎo)體基板。