[發明專利]反射折射投影光學系統、反射折射光學裝置、掃描曝光裝置以及微元件的制造方法

有效

• 申請號: 200780009672.7
• 申請日: 2007-02-23
• 公開（公告）號: CN101405659A
• 公開（公告）日: 2009-04-08
• 發明（設計）人: 加藤正紀
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B13/24;G02B17/08;H01L21/027
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 壽 寧

1.一種掃描曝光裝置，其將配置于第1面上的第1物體與配置于第2面上的第2物體在掃描方向中同步移動，且使上述第1物體的像掃描曝光于上述第2物體上，其特征在于其包括：

第1投影光學系統，將上述第1面的第1視場的放大像形成至上述第2面上的第1投影區域內；以及

第2投影光學系統，將上述第1面的與上述第1視場不同的第2視場的放大像形成至上述第2面上的與上述第1投影區域不同的第2投影區域內，且

上述第1投影光學系統包括第1偏向構件，使與上述第1面正交的方向中進行的光偏向上述掃描方向的一側；以及第2偏向構件，使由上述第1偏向構件而來之在上述掃描方向的一側進行的光偏向上述正交的方向且導向上述第1投影區域，

上述第2投影光學系統包括第3偏向構件，使在上述正交的方向中進行的光偏向上述掃描方向的另一側；以及第4偏向構件，使由上述第3偏向構件而來之在上述掃描方向的另一側進行的光偏向上述正交的方向且導向上述第2投影區域，

當將上述掃描方向中的上述第1視場和上述第2視場的間隔設為Dm、將上述掃描方向中的上述第1投影區域和上述第2投影區域的間隔設為Dp、將上述第1及第2投影光學系統的倍率設為β時，滿足

Dp＝|β|×Dm的關系。

2.根據權利要求1所述的掃描曝光裝置，其特征在于所述的第1投影光學系統具備：

凹面反射鏡，配置于上述第1面與上述第2面之間的光路中；

第1透鏡群，配置于上述第1面與上述凹面反射鏡之間的光路中；

第2透鏡群，配置于上述第1透鏡群與上述凹面反射鏡之間的光路中；以及

第3透鏡群，配置于上述第2偏向構件與上述第2面之間的光路中，且具有與上述第1透鏡群的光軸大致平行的光軸，

上述第1偏向構件配置于上述第2透鏡群與上述第2面之間的光路中，且使由上述第2透鏡群而來之在上述正交的方向中進行的光偏向上述掃描方向的一側；

上述第2投影光學系統具有與上述第1投影光學系統在上述掃描方向中對稱配置的構成。

3.根據權利要求2所述的掃描曝光裝置，其特征在于所述第1偏向構件使在上述正交的方向中進行的光偏向，以橫切上述第1透鏡群的光軸。

4.根據權利要求2所述的掃描曝光裝置，其特征在于構成上述第1透鏡群、上述第2透鏡群、以及上述第3透鏡群且具有折射能力的光學構件以其光軸與重力方向平行的方式而配置著。

5.根據權利要求2所述的掃描曝光裝置，其特征在于上述第1投影光學系統在上述凹面反射鏡的反射面的近旁具有孔徑光圈。

6.根據權利要求5所述的掃描曝光裝置，其特征在于上述孔徑光圈以上述第1投影光學系統的上述第1面側及上述第2面側大致是遠心的方式而定位著。

7.根據權利要求2所述的掃描曝光裝置，其特征在于當將上述第1透鏡群的焦點距離設為f1、將上述第3透鏡群的焦點距離設為f3、將上述投影光學系統的倍率設為β時，滿足

0.8×|β|≤f3/f1≤1.25×|β|

|β|≥1.8。

8.根據權利要求1所述的掃描曝光裝置，其特征在于上述第1視場的放大像是該第1視場的一次像，且上述第2視場的放大像是該第2視場的一次像。

9.根據權利要求1所述的掃描曝光裝置，其特征在于：

上述第1投影光學系統在與上述掃描方向正交的方向中以規定間隔而配置多個，且

上述第2投影光學系統在對上述第1投影光學系統而言為上述掃描方向的另一側處、在上述正交的方向中以規定間隔而配置多個。

10.根據權利要求9所述的掃描曝光裝置，其特征在于：

多個上述第1投影光學系統的多個上述第1視場配置在沿著與上述掃描方向正交的方向的第1行中，

多個上述第2投影光學系統的多個上述第2視場配置在沿著與上述掃描方向正交的方向的第2行中，

多個上述第1投影光學系統的多個上述第1投影區域配置在沿著與上述掃描方向正交的方向的第3行中，

多個上述第2投影光學系統的多個上述第2投影區域配置在沿著與上述掃描方向正交的方向的第4行中。