[發明專利]反作用于結晶沉淀的涂料或涂層

有效

• 申請號: 200780008380.1
• 申請日: 2007-03-09
• 公開（公告）號: CN101400745A
• 公開（公告）日: 2009-04-01
• 發明（設計）人: S·法伯;B·希洛;O·賓克爾;R·諾寧格;M·福斯特;B·魯姆普夫;F·克萊恩賈杰;J·霍普夫;D·蘭
• 申請（專利權）人: ITN納諾維森股份公司;巴斯夫歐洲公司
• 主分類號: C09D5/00
• 分類號: C09D5/00;C09D7/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 溫宏艷;李連濤

1.反作用于基材上的結晶沉淀的涂層，包含：

-含粘合劑體系和陶瓷顆粒的基質，所述粘合劑體系包含至少一種有 機硅成分，和

-顆粒形式的六方晶系氮化硼，

氮化硼顆粒被結合進基質中，并基本均勻分布在其中。

2.權利要求1的涂層，其特征在于，所述粘合劑體系包括作為有機 粘合劑的丙烯酸類粘合劑。

3.權利要求1的涂層，其特征在于，所述粘合劑體系包含作為至少 一種有機硅成分的烷基聚硅氧烷、烷基硅樹脂或苯基硅樹脂。

4.權利要求1的涂層，其特征在于，所述粘合劑體系包括至少一種 硅酮聚酯樹脂。

5.權利要求1的涂層，其特征在于，所述粘合劑體系可在低于250 ℃固化。

6.權利要求1的涂層，其特征在于，所述粘合劑體系包括至少一種 無機粘合劑。

7.權利要求6的涂層，其特征在于，所述無機粘合劑包括平均顆粒 尺寸＜100nm的納米顆粒。

8.權利要求6的涂層，其特征在于，所述無機粘合劑包括氧化物顆 粒。

9.權利要求1的涂層，其特征在于，所述基質的陶瓷顆粒具有0.2 μm-5μm的平均顆粒尺寸。

10.權利要求1的涂層，其特征在于，所述陶瓷顆粒是氧化物顆粒。

11.權利要求1的涂層，其特征在于，所述陶瓷顆粒是鋁硅酸鹽顆 粒。

12.權利要求1的涂層，其特征在于，所述氮化硼顆粒具有0.2μ m-5μm的平均顆粒尺寸。

13.權利要求1的涂層，其特征在于，其具有10μm-150μm的 厚度。

14.用于制備權利要求1的涂層的組合物，包括：

a.粘合劑體系，所述粘合劑體系包含至少一種有機硅成分，

b.陶瓷顆粒，

c.顆粒形式的六方晶系氮化硼，

d.任選的工藝添加劑，和

e.至少一種溶劑。

15.權利要求14的組合物，其特征在于，所述至少一種溶劑是水。

16.權利要求14的組合物，其特征在于，其具有30重量％-50重量 ％的固含量。

17.權利要求14的組合物，其特征在于其包括氮化硼，其比例基 于固體含量，為5重量％-50重量％。

18.權利要求14的組合物，其特征在于，其包括陶瓷顆粒，基于固 體含量，其比例為5重量％-50重量％。

19.權利要求14的組合物作為用于涂覆與含鹽介質相接觸的表面 的材料的用途。

20.水處理設備、海水淡化設備、熱交換體系，蒸氣預熱器體系或 冷卻水回路，其特征在于，其具有與含鹽水接觸的部件，所述部件已經 至少部分配備有含六方晶系氮化硼的涂層。

21.用于在基材上制備涂層的方法，其中將權利要求14的組合物施 加到基材上并固化。

22.根據權利要求21的方法，其中固化在＜250℃的溫度進行。