[發(fā)明專(zhuān)利]布拉格衍射安全標(biāo)記無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200780001940.0 | 申請(qǐng)日： | 2007-01-03 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101365594A | 公開(kāi)（公告）日： | 2009-02-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | C·H·芒羅;M·D·梅里特;S·珀迪 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | PPG工業(yè)俄亥俄公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | B41M3/10 | 分類(lèi)號(hào)： | B41M3/10;B41M3/14;G03F7/16;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人： | 王長(zhǎng)青 |
| 地址： | 美國(guó)俄*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 布拉格 衍射 安全 標(biāo)記 | ||
1.一種采用輻射水印標(biāo)記制品的方法，其包括：
將有序的周期性顆粒陣列以標(biāo)記制品的形式施加在制品上，其中該陣列衍射可檢測(cè)的波長(zhǎng)下的輻射。
2.權(quán)利要求1的方法，其中該水印在一個(gè)視角下出現(xiàn)并且在另一個(gè)視角下消失。
3.權(quán)利要求1的方法，其中該水印在基本全部的視角下衍射可見(jiàn)光。
4.權(quán)利要求1的方法，其中該水印衍射可見(jiàn)光光譜之外的輻射。
5.權(quán)利要求1的方法，其中該陣列為薄膜的形式。
6.權(quán)利要求5的方法，其中該薄膜在制品上制得。
7.權(quán)利要求5的方法，其中該薄膜與制品單獨(dú)地制得并且施加在制品上。
8.權(quán)利要求1的方法，其中該陣列為粒狀形式以施加在制品上。
9.權(quán)利要求8的方法，其中該粒狀陣列是用于施加在制品上的涂料組合物的組分。
10.權(quán)利要求1的方法，其中該陣列包含容納在基質(zhì)內(nèi)的顆粒。
11.權(quán)利要求10的方法，其中顆粒包含聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸類(lèi)聚合物、醇酸聚合物、聚酯、含硅氧烷的聚合物、聚硫化物、含環(huán)氧的聚合物和/或衍生自含環(huán)氧的聚合物的聚合物，并且其中基質(zhì)包含選自以下的材料：聚氨酯、丙烯酸類(lèi)聚合物、醇酸聚合物、聚酯、含硅氧烷的聚合物、聚硫化物、含環(huán)氧的聚合物和/或衍生自含環(huán)氧的聚合物的聚合物。
12.權(quán)利要求11的方法，其中基質(zhì)進(jìn)一步包含無(wú)機(jī)材料。
13.權(quán)利要求1的方法，其中該陣列包含容納在基質(zhì)內(nèi)的核-殼顆粒。
14.權(quán)利要求13的方法，其中顆粒核包含聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸類(lèi)聚合物、醇酸聚合物、聚酯、含硅氧烷的聚合物、聚硫化物、含環(huán)氧的聚合物和/或衍生自含環(huán)氧的聚合物的聚合物，并且其中基質(zhì)和殼的每一種包含聚氨酯、丙烯酸類(lèi)聚合物、醇酸聚合物、聚酯、含硅氧烷的聚合物、聚硫化物、含環(huán)氧的聚合物和/或衍生自含環(huán)氧的聚合物的聚合物。
15.權(quán)利要求14的方法，其中基質(zhì)進(jìn)一步包含無(wú)機(jī)材料。
16.一種根據(jù)權(quán)利要求1的方法制得的具有水印的制品。
17.權(quán)利要求16的制品，其中該陣列的衍射波長(zhǎng)證實(shí)了制品的來(lái)源或者識(shí)別制品。
18.權(quán)利要求16的制品，其中水印是裝飾性的。
19.一種制備展現(xiàn)出圖像的制品的方法，其包括：
將周期性的顆粒陣列以圖像的形式施加在制品上；
用基質(zhì)組合物涂覆顆粒陣列；和
使涂覆的顆粒陣列固定以使得當(dāng)通過(guò)固定的陣列衍射輻射時(shí)可檢測(cè)到圖像。
20.權(quán)利要求19的方法，其中顆粒是核-殼顆粒，核基本是不可溶脹的并且殼是非成膜的，該方法進(jìn)一步包括以下步驟：
通過(guò)使基質(zhì)組分?jǐn)U散入殼中而使殼溶脹；和
使涂覆的核-殼顆粒陣列的至少一部分固定以使得固定部分衍射所希望的波長(zhǎng)下的輻射。
21.權(quán)利要求20的方法，其中擴(kuò)散的基質(zhì)組分包含可聚合的單體。
22.權(quán)利要求21的方法，其中固定步驟包括使基質(zhì)單體在基質(zhì)和殼中交聯(lián)。
23.權(quán)利要求22的方法，其中所述固定步驟包括通過(guò)掩模使基質(zhì)單體輻射固化以使第一部分的涂覆的陣列固定。
24.權(quán)利要求23的方法，其進(jìn)一步包括通過(guò)另一個(gè)掩模使基質(zhì)單體輻射固化以使第二部分的涂覆的陣列固定，以使得該陣列的第一和第二固定部分衍射不同波長(zhǎng)的輻射。
25.權(quán)利要求19的方法，其中該陣列的一部分用第一基質(zhì)組合物涂覆并且該陣列的另一部分用第二基質(zhì)組合物涂覆，以使得(i)在每一部分中在顆粒與基質(zhì)之間的折射率差值不同或(ii)在每一部分中涂覆的陣列的有效折射率不同或者(iii)這兩者。
26.一種根據(jù)權(quán)利要求19的方法制得的制品。
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