[實用新型]一種X射線光柵相襯成像系統

有效

• 申請號: 200720190341.5
• 申請日: 2007-11-23
• 公開（公告）號: CN201191275Y
• 公開（公告）日: 2009-02-04
• 發明（設計）人: 康克軍;黃志峰;張麗;陳志強;李元景;劉以農;趙自然;刑宇翔
• 申請（專利權）人: 同方威視技術股份有限公司;清華大學
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04;G21K1/06;G02B27/52
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 龔海軍;譚祐祥

1.一種X射線光柵相襯成像系統，用于對物體進行檢測，特征在于，該系統包括：

X射線發射裝置，用于向被檢測物體發射X射線；

第一和第二吸收光柵，二者平行地依次位于X射線方向上，被檢測物體折射的X射線經由該第一和/或第二吸收光柵形成強度變化的X射線信號，其中該X射線信號包含被折射X射線的折射角信息；

檢測單元，用于接收所述強度變化的X射線，并將X射線信號轉換為電信號；以及

數據處理單元用于從所述檢測單元接收所述電信號，提取該電信號中折射角信息，并根據所述折射角信息利用預定算法來重構物體內部的折射率分布的斷層圖像。

2.如權利要求1的系統，其中特征在于，所述X射線發射裝置的焦點尺寸滿足方程式p0>>lp1λ,]]>其中λ為X射線的波長，p₀為X射線發射裝置的焦點尺寸，p₂為所述第一吸收光柵的周期，l為所述第一吸收光柵與所述X射線發射裝置的距離。

3.如權利要求2的系統，其中特征在于，所述X射線發射裝置包括X射線源，優選地，該X射線源的焦點尺寸不大于所述X射線發射裝置的臨界焦點尺寸的一半，其中所述X射線發射裝置的臨界焦點尺寸p_0，critical為p0,critical=ldp2,]]>其中p₂為所述第二吸收光柵的周期，d為所述第一吸收光柵與所述第二吸收光柵之間的距離。

4.如權利要求3的系統，其中特征在于，所述第一和第二吸收光柵之間的距離滿足方程式p1p2=ll+d.]]>

5.如權利要求4的系統，其中特征在于，所述X射線發射裝置的焦點尺寸大小為50-1000微米。

6.如權利要求4的系統，其中特征在于，所述第一吸收光柵和第二吸收光柵的周期在2微米-30微米之間。

7.如權利要求2的系統，其中特征在于，所述X射線發射裝置包括X射線源和多縫準直器，其中所述X射線源的焦點尺寸大于所述X射線發射裝置的臨界焦點尺寸的一半，所述X射線發射裝置的臨界焦點尺寸為p0,critical=ldp2,]]>所述多縫準直器放置在所述X射線發射裝置與所述第一吸收光柵之間，并且優選地，所述多縫準直器每條縫的寬度不大于所述X射線發射裝置的臨界焦點尺寸的一半。

8.如權利要求7的系統，其中特征在于，所述多縫準直器每個縫的大小為50-200微米。