[實用新型]水凈化裝置

無效

• 申請號: 200720175501.9
• 申請日: 2007-08-30
• 公開（公告）號: CN201091805Y
• 公開（公告）日: 2008-07-30
• 發明（設計）人: 劉佳昌
• 申請（專利權）人: 劉佳昌
• 主分類號: B01D29/35
• 分類號: B01D29/35;B01D39/20
• 代理公司: 北京維澳專利代理有限公司
• 代理人: 張應;吳蘭柱

技術領域

本實用新型涉及一種水的凈化裝置。

背景技術

現今的半導體硅晶圓處理過程中，需要不斷的清洗硅晶圓，其硅晶圓清洗的目的在于不破壞或劣化晶圓表面的前提下，去除晶圓表面的附著塵粒及化學不純物，以得到潔凈的晶圓，而晶圓表面上常見的污染物種類有微塵、有機物、光阻劑、金屬離子、原生氧化層等；硅晶圓使用化水溶液清洗溶劑清洗后，一般皆使用大量的去離子水(DI?water)清洗，清洗之后會帶有大量的雜質，所以需要后處理才能排放。

現今的廢水處理方式一般是使用化學藥劑，使顆粒混凝沉淀后，再利用薄膜分離處理，然后才成為潔凈的水放流出去，為了環境與成本的考慮，一般廠商會進行回收，作為次級的用水，或是補悒超純水處理的用水，由于導電度低，遂能避免過濾設備的損耗，大幅提升用水的效率。

下表中所示為目前各種凈水器可去除的污染物及其購置、維護條件的一覽表：

凈水器種類??????????????????????????????可去除的污染物??購置??成本??維護??難易??水回??收率三鹵甲烷??農藥??氯味??臭味??硬度??重金屬??細菌/病毒軟水器×??×??×??×??○??○??×????低??中??100％活性碳濾水器○??○??○??○??×??△??△??低??中??100％蒸餾水制造機△??○??△??○??○??○??○??中??易??100％逆滲透系統○??○??○??○??○??○??○??高??難??30％過濾器*×??×??×??×??×??×??×??低??易??100％紫外光殺菌*×??×??×??×??×??×??○??中??中??100％