[實(shí)用新型]具有動(dòng)磁體或定磁體的流體磁處理單元無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200720155692.2 | 申請(qǐng)日: | 2007-08-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN201077789Y | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周耀周 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 周耀周 |
| 主分類號(hào): | C02F1/48 | 分類號(hào): | C02F1/48 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 陳堅(jiān) |
| 地址: | 加拿大*** | 國(guó)省代碼: | 加拿大;CA |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 磁體 流體 處理 單元 | ||
1.一種流體磁處理單元,其特征在于,包括:
殼體,其具有外壁、在所述外壁內(nèi)限定一腔室的頂部和底部;所述殼體具有中央縱軸線和一對(duì)沿所述軸線間隔開(kāi)的相對(duì)端,所述殼體在所述一端形成有流體入口并在所述相同端或另一端形成有流體出口以允許流體流經(jīng)所述腔室;
至少一個(gè)布置在所述腔室中的環(huán)形磁體,所述環(huán)形磁體橫過(guò)所述腔室相對(duì)于所述軸線垂直延伸;
設(shè)在所述環(huán)形磁體上方和下方的頂部分隔件和底部分隔件,用于允許所述流體沿著所述環(huán)形磁體的至少一個(gè)環(huán)形表面環(huán)向流動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的單元,其特征在于,沿所述環(huán)形磁體的環(huán)形表面放置粒狀磁石。
3.如權(quán)利要求1所述的單元,其特征在于,該單元包括一個(gè)環(huán)形磁體。
4.如權(quán)利要求3所述的單元,其特征在于,所述流體沿著所述環(huán)形磁體的環(huán)形表面,以并行或順序的形式環(huán)向流動(dòng)。
5.如權(quán)利要求3所述的單元,其特征在于,所述流體被分成相等的流體流并沿著所述環(huán)形磁體的至少一個(gè)環(huán)形表面并行地流過(guò)環(huán)形圈的一半。
6.如權(quán)利要求1所述的單元,其特征在于,該單元包括至少一對(duì)環(huán)形磁體。
7.如權(quán)利要求6所述的單元,其特征在于,所述一對(duì)環(huán)形磁體定位成使得相鄰環(huán)形磁體的相同磁極彼此相對(duì)。
8.如權(quán)利要求7所述的單元,其特征在于,所述流體沿著所述環(huán)形磁體的兩個(gè)磁極,以并行或順序的形式環(huán)向流動(dòng)。
9.如權(quán)利要求7所述的單元,其特征在于,所述流體被分成相等的流體流并沿著所述環(huán)形磁體的兩個(gè)磁極并行地流過(guò)環(huán)形圈的一半。
10.如權(quán)利要求7所述的單元,其特征在于,所述流體沿著所述環(huán)形磁體的相同磁極,以并行或順序的形式環(huán)向流動(dòng)。
11.如權(quán)利要求7所述的單元,其特征在于,所述流體被分成相等的流體流并沿著所述環(huán)形磁體的相同磁極并行地流過(guò)環(huán)形圈的一半。
12.如權(quán)利要求7所述的單元,其特征在于,所述流體沿著所述環(huán)形磁體的環(huán)形表面,以并行或順序的形式環(huán)向流動(dòng)。
13.如權(quán)利要求7所述的單元,其特征在于,所述流體被分成相等的流體流并沿著所述環(huán)形磁體的環(huán)形表面并行地流過(guò)環(huán)形圈的一半。
14.如權(quán)利要求6所述的單元,其特征在于,所述一對(duì)環(huán)形磁體定位成使得相鄰環(huán)形磁體的相反磁極彼此相對(duì)。
15.如權(quán)利要求14所述的單元,其特征在于,所述流體沿著所述環(huán)形磁體的兩個(gè)磁極,以并行或順序的形式環(huán)向流動(dòng)。
16.如權(quán)利要求14所述的單元,其特征在于,所述流體被分成相等的流體流并沿著所述環(huán)形磁體的兩個(gè)磁極并行地流過(guò)環(huán)形圈的一半。
17.如權(quán)利要求14所述的單元,其特征在于,所述流體沿著所述環(huán)形磁體的環(huán)形表面,以并行或順序的形式環(huán)向流動(dòng)。
18.如權(quán)利要求14所述的單元,其特征在于,所述流體被分成相等的流體流并沿著所述環(huán)形磁體的環(huán)形表面并行地流過(guò)環(huán)形圈的一半。
19.如權(quán)利要求3所述的單元,其特征在于,所述環(huán)形磁體為環(huán)狀磁體、盤(pán)狀磁體或環(huán)狀電磁體。
20.如權(quán)利要求6所述的單元,其特征在于,所述環(huán)形磁體為環(huán)狀磁體、盤(pán)狀磁體或環(huán)狀電磁體。
21.一種流體磁處理單元,其特征在于,包括:
殼體,其具有外壁、在所述外壁內(nèi)限定一腔室的頂部和底部;所述殼體具有中央縱軸線和一對(duì)沿所述軸線間隔開(kāi)的相對(duì)端,所述殼體在所述一端形成有流體入口并在所述相同端或另一端形成有流體出口以允許流體流經(jīng)所述腔室;
至少一個(gè)布置在所述腔室中的環(huán)形磁體,所述環(huán)形磁體橫過(guò)所述腔室相對(duì)于所述軸線垂直延伸;所述環(huán)形磁體在所述磁體的磁極上具有由磁性材料制成的第一組罩,并在所述磁體的其它環(huán)形表面上具有由非磁性材料制成的第二組罩;
設(shè)在所述環(huán)形磁體上方和下方的頂部分隔件和底部分隔件,用于允許所述流體沿著所述環(huán)形磁體的至少一個(gè)環(huán)形表面環(huán)向流動(dòng)。
22.如權(quán)利要求21所述的單元,其特征在于,沿所述環(huán)形磁體的環(huán)形表面放置粒狀磁石。
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