[實(shí)用新型]鑰匙復(fù)制機(jī)的深度控制裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200720153681.0
• 申請日: 2007-05-25
• 公開（公告）號: CN201052583Y
• 公開（公告）日: 2008-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳國聲
• 申請（專利權(quán)）人: 東之吳有限公司
• 主分類號: B23Q35/02
• 分類號: B23Q35/02;B23Q5/52;B23B41/00
• 代理公司: 天津三元專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 馬金華

1.一種鑰匙復(fù)制機(jī)的深度控制裝置，其特征在于，包括：

一基座，其一端供固定至一鑰匙復(fù)制機(jī)；

一控制盤，其樞設(shè)于該基座上，且環(huán)繞樞設(shè)處的表面上形成有數(shù)個(gè)凹槽，該數(shù)個(gè)凹槽分別具有特定深度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的深度控制裝置，其特征在于所述基座上設(shè)置有一定位件，該定位件包括有一珠體及一推頂于珠體，令珠體突出基座的彈性組件；且其控制盤底部環(huán)繞形成有數(shù)個(gè)定位孔，該定位孔是間隔以固定距離，而逐一地與前述定位件的珠體相互卡合來達(dá)成定位。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的深度控制裝置，其特征在于所述控制盤頂部突出形成有一凸部供凹槽環(huán)繞形成于其上，且中央穿透形成有一容穴，該容穴內(nèi)壁面形成有凸環(huán)，且該凸環(huán)中央穿透形成有與容穴相通，且內(nèi)徑小于容穴的穿孔；且其進(jìn)一步包括有一樞轉(zhuǎn)件，該樞轉(zhuǎn)件固定于基座上，具有光滑表面且是位于該控制盤的容穴之中，其頂部具有一軸部，該軸部穿套過該凸部的穿孔并與該控制盤相互定位，使該控制盤貼于該樞轉(zhuǎn)件表面而相對該基座旋轉(zhuǎn)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的深度控制裝置，其特征在于所述控制盤的凸部外緣環(huán)繞形成有斜面，該斜面上相對應(yīng)于各凹槽處，則形成有數(shù)個(gè)標(biāo)示符號，該標(biāo)示符號分別指出其相對應(yīng)凹槽的定義深度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的深度控制裝置，其特征在于所述控制盤上的標(biāo)示符號依序?yàn)椋篈、B、C及D，以及1、2、3、4及5，其中：A與1、B與2、C與3、D與4代表相同的深度。