[實用新型]一種應用在上下靶標對位準確度的量測裝置

無效

• 申請號: 200720148774.4
• 申請日: 2007-06-06
• 公開（公告）號: CN201097110Y
• 公開（公告）日: 2008-08-06
• 發明（設計）人: 蔡宗霖
• 申請（專利權）人: 聯策科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 孫皓晨

技術領域

本實用新型涉及的是一種應用在上下靶標對位準確度的量測裝置，特別涉及的是一種通過影像擷取裝置得到一擷取影像，并將所述的擷取影像供給影像辨識單元判斷得知一比較結果，且通過輸出單元使操作人員得知所述的比較結果，而達到效率高、降低不良率、降低成本與提升整體競爭力的優點的量測裝置。

背景技術

目前微影(Lithography)技術是利用光線通過光罩(Mask)照射在感光材料上，將光罩上的主要圖案先轉移至感光材料(光阻)上，再以溶劑浸泡將感光材料受光照射到的部份加以溶解或保留，如此形成的光阻圖案會和光罩完全相同或呈互補。

而微影制程主要是由光阻覆蓋、曝光與顯影等三個大步驟所組成，其中，在進行曝光前，必須先對光罩或底片與待對位件進行對準(Align)的動作。請參閱圖1，圖示為基板的曝光示意圖，所述的基板1’上方與下方是各設置有一光罩2’、3’(或為底片)，所述的光罩2’、3’是具有布線的電路圖等式樣，并在曝光前先對光罩2’、3’進行對準動作，待對準動作完成后，光罩2’、3’向內移動靠近基板1’，如此一來，就可進行后續的曝光程序。而所述的對準動作目前一般是交給曝光機的對準儀器所執行，當然也有以人工操作的方式對準光罩再進行后續的曝光程序。

前述曝光機的對準儀器在使用上，可以判斷光罩與基板是否有對準；但是可知道的是，當光罩2’、3’向內靠近基板1’移動時，一定會產生機械動作上的誤差，且光罩受UV光照射也會產生一定的脹縮量，因此當光罩與基板產生偏移時，作業人員卻無法針對光罩與基板的偏移量和誤差問題作分析，造成產品不良率提高，進而導致成本上升，另一方面，也使得整體的競爭力下降。而作業人員卻沒有方法可以進行改進。

有鑒如此，本實用新型設計人基于使用者與業者的需求，乃以從事此產業多年設計的經驗累積，而創新出一種應用在上下靶標對位準確度的量測裝置，供業界利用。

發明內容

鑒于以上所述現有技術缺點，本實用新型的主要目的是提供一種效率高、降低不良率、降低成本與提升整體的競爭力的應用在上下靶標對位準確度的量測裝置。

為達上述目的，本實用新型提供一種應用在上下靶標對位準確度的量測裝置，是用以對被量測物進行對位準確度與偏移向量的量測動作，并以分析上下靶標偏移向量，包含有：

至少一基座，所述的基座設置一承置臺，且承置臺是用以承置被量測物；

至少兩影像擷取裝置，是相對立設置在前述基座的承置臺上、下兩方，所述的影像擷取裝置是各包括有一攝影機，一設置在攝影機外的鏡頭，與一設置在鏡頭外側面的光源；

至少一影像辨識單元，包括有一計算機主機，與一加載在計算機主機內的檢測程序，所述的計算機主機是電連接前述的影像擷取裝置；以及

至少一個輸出單元，是電連接前述的影像辨識單元。

本實用新型的優點在于，可以改進現有技術缺陷、具有效率高、降低不良率、降低成本與提升整體的競爭力。

附圖說明：

圖1所示是基板的曝光示意圖；

圖2所示是被量測物的平面圖；

圖3所示是被量測物的側視圖；

圖4所示是本實用新型第一實施例的動作示意圖(校正時)；

圖5所示是本實用新型第一實施例的動作示意圖(使用時)；

圖6所示是本實用新型的擷取影像平面圖；

圖7所示是本實用新型第二實施例的正視圖；以及

圖8所示是本實用新型第一實施例的方塊圖。

附圖標記說明：1’-基板；2’-底片；3’-底片；4’-光源；5’-光源；9’-校正片；91’-垂直孔；1-基座；11-承置臺；111-定位凸塊；12-升降機構；2-影像擷取裝置；21-攝影機；211-擷取影像；22-鏡頭；23-光源；3-影像擷取裝置；31-攝影機；311-擷取影像；32-鏡頭；33-光源；4-影像辨識單元；41-計算機主機；42-檢測程序；421-比較結果；5-輸出單元；6-影像擷取裝置；61-攝影機；62-鏡頭；63-光源；7-影像擷取裝置；71-攝影機；72-鏡頭；73-光源；9-被量測物；91-靶標。

具體實施方式

以下結合附圖，對本新型上述的和另外的技術特征和優點作更詳細的說明。

請配合參閱圖2至圖5與圖8所示，本實用新型第一實施例的應用在上下靶標對位準確度的量測裝置，是用以對被量測物9兩面的靶標91進行對位準確度與偏移向量的量測動作，包含有：