[實用新型]帶有修根環的迷宮式填料箱密封底座有效
| 申請號： | 200720131951.8 | 申請日： | 2007-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN201170319Y | 公開（公告）日： | 2008-12-24 |
| 發明（設計）人： | 張軍 | 申請（專利權）人： | 艾志工業技術集團有限公司 |
| 主分類號： | F16J15/447 | 分類號： | F16J15/447 |
| 代理公司： | 南京天翼專利代理有限責任公司 | 代理人： | 湯志武 |
| 地址： | 210024*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 帶有 根環 迷宮 填料 密封 底座 | ||
【權利要求書】：
1、一種帶有修根環的迷宮式填料箱密封底座，安裝在設備密封腔內和設備的轉動軸套接并保持間隙，兩端分別與設備密封腔根部及外部密封盤根預緊力靜止接觸，其特征是至少在與設備密封腔根部接觸連接的端面上，嵌入并固定有修根環，修根環內徑與轉動軸之間有間隙，密封底座的的內孔面上開有迷宮槽。
2、根據權利要求1所述的帶有修根環的迷宮式填料箱密封底座，其特征是迷宮槽為槽深由密封腔根部一端向密封盤根一端逐漸放大且連續的螺旋槽，旋向與設備的轉動軸旋向相反。
3、根據權利要求1所述的帶有修根環的迷宮式填料箱密封底座，其特征是迷宮槽為槽深由密封腔根部一端向密封盤根一端逐漸放大的間隔的環形槽。
4、根據權利要求1或2或3所述的帶有修根環的迷宮式填料箱密封底座，其特征是密封底座與密封盤根接觸的端面上均勻設有至少兩個工藝孔，密封底座圓周面上設有圓周凸起與設備密封腔定位。
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