[實用新型]一種放射性核塵埃防護面料

無效

• 申請號: 200720126582.3
• 申請日: 2007-08-29
• 公開（公告）號: CN201104309Y
• 公開（公告）日: 2008-08-20
• 發明（設計）人: 郝新敏;張建春;郭玉海;梁高勇;王巖
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍總后勤部軍需裝備研究所浙江理工大學寧波澳泰克氟膜科技有限公司
• 主分類號: G21F1/12
• 分類號: G21F1/12
• 代理公司: 北京元中知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 王明霞;俞昌華

1.?一種放射性核塵埃防護面料，包括在最外層的面層、中間的阻隔層以及最里層的針織層，其特征在于：

所述的面層為經過拒水和軋光整理的并帶有導電纖維的滌綸或尼龍機織布的面層；

所述的阻隔層為多層復合膜，其為兩層或三層透濕型聚四氟乙烯薄膜層復合而成的兩層或三層結構；

或者為一層或兩層聚四氟乙烯薄膜層與選自透濕型聚乙烯薄膜層、聚丙烯薄膜層、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜層或聚氨酯薄膜層中的一種復合而成的多層復合結構；

所述阻隔層的多層膜之間采用膠點復合連接，阻隔層的一側與所述面層膠點復合連接，阻隔層的另一側與所述針織層膠點復合連接。

2.?根據權利要求1所述的一種放射性核塵埃防護面料，其特征在于：所述的聚乙烯薄膜層、聚丙烯薄膜層、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜層或聚氨酯薄膜層厚度為2-5微米；所述的聚四氟乙烯薄膜層厚度為10-50微米。

3.?根據權利要求1或2所述的一種放射性核塵埃防護面料，其特征在于：所述的多層復合膜為兩層聚四氟乙烯薄膜層與聚乙烯薄膜層、聚丙烯薄膜層、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜層或聚氨酯薄膜層中的一種復合而成的多層結構。

4.?根據權利要求3所述的一種放射性核塵埃防護面料，其特征在于：所述的聚乙烯薄膜層、聚丙烯薄膜層、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜層或聚氨酯薄膜層在兩層聚四氟乙烯薄膜層之間。

5.?根據權利要求1所述的一種放射性核塵埃防護面料，其特征在于：所述的導電纖維以1-1.5厘米的間距設置在面層內。