[實用新型]精密雙面拋光機的上拋光盤傳動機構

無效

• 申請號: 200720108955.4
• 申請日: 2007-05-09
• 公開（公告）號: CN201040354Y
• 公開（公告）日: 2008-03-26
• 發明（設計）人: 李偉;胡曉冬
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: B24B29/00
• 分類號: B24B29/00;B24B47/14
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司
• 代理人: 王兵;王利強

(一)技術領域

本實用新型涉及拋光機領域，尤其是一種雙面拋光機的上拋光盤傳動機構。

(二)背景技術

原傳統研拋機采用單電機帶動，參見圖1，通過齒輪傳動系統實現上下拋光盤、內齒圈、外齒圈的轉動，上下拋光盤與行星輪只有兩種速度比，限制了雙面拋光加工運動軌跡的變化，缺乏對速度的精確控制。

對于上拋光盤的傳動結構，采用氣缸加壓，加載到上拋光盤的壓力可以為輕壓或重壓，壓力不可調節；由于不能精確地控制上拋光盤對工件的壓力，工件的拋光精度較低。

(三)實用新型內容

為了克服已有拋光機的上拋光盤傳動機構不能調節工作壓力、拋光精度低的不足，本實用新型提供一種能夠精確控制上拋光盤對工件的壓力，有效提升拋光精度的精密雙面拋光機的上拋光盤傳動機構。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種精密雙面拋光機的上拋光盤傳動機構，包括機架、安裝在機架上的驅動裝置，所述驅動裝置帶有活塞桿，所述的活塞桿與上拋光盤連接，所述的驅動裝置連接用于調節加載壓力大小的壓力調節閥，在所述的活塞桿與上拋光盤的連接處安裝壓力傳感器；所述的上拋光盤傳動機構還包括用于接收壓力傳感器的信號，并將壓力傳感器的壓力值與預設的工作壓力比較，選擇性地向壓力調節閥發出增大或減小壓力指令的上拋光盤壓力控制器，所述的壓力調節閥、壓力傳感器連接上拋光盤壓力控制器。

作為優選的一種方案：所述的驅動裝置為氣缸，所述氣缸包括上室、下室以及活塞，活塞連接活塞桿，所述上室與上氣管連通，所述下室與下氣管連通，所述的上氣管、下氣管分別與大氣連通、同時與壓力調節閥連通。

作為優選的再一種方案：上拋光盤與氣缸活塞桿浮動連接。

進一步，所述的氣缸活塞桿通過浮動接頭與上拋光盤連接，所述浮動接頭為球弧面的球軸承。

更進一步，所述的氣缸活塞桿與連接桿連接，所述的連接桿與壓力傳感器連接，所述壓力傳感器連接轉動軸，所述轉動軸連接在球弧面的球軸承，所述球軸承與上拋光盤支架連接。

本實用新型的技術構思為：拋光機在非接觸拋光時，要將上拋光盤相對工件(在下拋光盤上)浮起數微米；而在接觸拋光時要對上拋光盤加載，最大載荷要達一百多公斤力；停止拋光時，則又要將上拋光盤抬起一定高度。

為實現該功能，上拋光盤采用氣缸利用高壓空氣的壓力來實現加壓。高壓空氣由上氣管進入氣缸的上室，推動活塞桿向下移動，上拋光盤浮動連接在氣缸活塞桿上，從而實現加工過程中所需壓力。高壓空氣由下氣管進入氣缸的下室，同時上氣管接通大氣，從而推動活塞帶動連接桿及拋光盤向上移動，即可卸下或檢查工件。氣缸的工作壓力調節通過調節氣壓系統中的壓力調節閥來實現，為精確控制上拋光盤對工件的壓力，氣缸與拋光盤連接處裝一個壓力傳感器，以形成一個閉環控制，從而實現對氣缸的精確控制。為保證拋光時的壓力調整要求，采用靜壓活塞。

本實用新型的有益效果主要表現在：1、能夠精確控制上拋光盤對工件的壓力，有效提升拋光精度；2、浮動接頭不要求負載與氣缸軸心一致，采用球軸承，能夠保證氣缸活塞桿與上拋光盤相互貼合。

(四)附圖說明

圖1是傳統的雙面研磨拋光機的結構示意圖。

圖2是本實用新型的雙面拋光機的結構示意圖。

圖3是拋光機的上拋光盤傳動機構的結構圖。

圖4是工控機的控制原理圖。

(五)具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型作進一步描述。

參照圖2、圖3、圖4，一種精密雙面拋光機的上拋光盤傳動機構，包括機架1、安裝在機架上的驅動裝置27，所述驅動裝置27帶有活塞桿28，所述的活塞桿28與上拋光盤22連接，所述的驅動裝置27連接用于調節加載壓力大小的壓力調節閥29，在所述的活塞桿28與上拋光盤22的連接處安裝壓力傳感器30；所述的上拋光盤傳動機構還包括用于接收壓力傳感器的信號，并將壓力傳感器的壓力值與預設的工作壓力比較，選擇性地向壓力調節閥發出增大或減小壓力指令的上拋光盤壓力控制器31，所述的壓力調節閥29、壓力傳感器30連接上拋光盤壓力控制器31。

所述的驅動裝置27為氣缸，所述氣缸包括上室、下室以及活塞，活塞連接活塞桿，所述上室與上氣管連通，所述下室與下氣管連通，所述的上氣管、下氣管分別與大氣連通、同時與壓力調節閥連通。