[實用新型]激光標刻機輔助對焦裝置

有效

• 申請號: 200720082279.8
• 申請日: 2007-12-04
• 公開（公告）號: CN201120528Y
• 公開（公告）日: 2008-09-24
• 發明（設計）人: 呂虹
• 申請（專利權）人: 深圳市星辰激光技術有限公司;桂林星辰電力電子有限公司
• 主分類號: B23K26/42
• 分類號: B23K26/42;B23K26/04
• 代理公司: 桂林市持衡專利商標事務所有限公司
• 代理人: 歐陽波

1、一種激光標刻機輔助對焦裝置，激光標刻機含有激光發生器、固裝于聚焦鏡底座(1)的聚焦鏡(5)、放置工件(8)的工作臺(9)，聚焦鏡底座(1)或工作臺(9)可上下平移；其特征在于：

還包括兩個光筆支架(3)、兩個可發出可見的平行光束的光筆(4)，二光筆(4)外接可控電源；兩個支架(3)可左右移動地安裝在位于聚焦鏡(5)的兩側的聚焦鏡底座(1)上，二光筆(4)分別可轉動地安裝在二支架(3)上；支架(3)上有轉動和平移的鎖緊裝置。

2、根據權利要求1所述的激光標刻機輔助對焦裝置，其特征在于：

所述聚焦鏡底座(1)下聚焦鏡(5)兩側有螺紋孔，兩側螺紋孔與聚焦鏡(5)中心成直線，二支架(3)頂部有腰形孔或導槽，平移鎖定螺絲(2)穿過腰形孔或導槽連接聚焦鏡底座(1)下的螺紋孔；支架(3)上有轉軸(6)或球形軸關節，光筆(4)桿尾部安裝在轉軸(6)或球形軸關節上，支架(3)上有可固定轉軸(6)或球形軸關節與支架(3)的旋轉鎖定螺絲(7)。