[實(shí)用新型]轉(zhuǎn)移膜無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200720072506.9 | 申請(qǐng)日： | 2007-07-16 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN201080295Y | 公開(kāi)（公告）日： | 2008-07-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 沈欣 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 沈欣 |
| 主分類號(hào)： | B65D25/36 | 分類號(hào)： | B65D25/36;B44C5/04;B44F1/02 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 200235上海市徐匯區(qū)*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 轉(zhuǎn)移 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
1.一種轉(zhuǎn)移膜，包括基膜、帶著色的信息層和噴鋁層，所述的信息層面向噴鋁層的一面設(shè)置有凹凸圖文，其特征在于：所述的凹凸圖文為文字筆畫(huà)或者圖案線條整體凹陷或凸出于非圖文區(qū)域，凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的寬度為0.04-30μm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)移膜，其特征在于：所述的凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的寬度為1-30μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)移膜，其特征在于：所述的文字筆畫(huà)或圖案線條區(qū)域與非圖文區(qū)域互為漫反射面和光滑面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)移膜，其特征在于：所述的文字筆畫(huà)或圖案線條為帶不同方向反射面的凹陷或凸起線條。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的轉(zhuǎn)移膜，其特征在于：所述的凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的高度或者深度為0.04-4μm。
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