[實用新型]壓濾機及壓濾機濾板有效
| 申請號: | 200720071241.0 | 申請日: | 2007-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN201076785Y | 公開(公告)日: | 2008-06-25 |
| 發明(設計)人: | 林信才;劉民權;劉江;馮均 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | B01D25/12 | 分類號: | B01D25/12 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 | 代理人: | 逯長明 |
| 地址: | 201203*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓濾 機濾板 | ||
技術領域
本實用新型涉及半導體封裝測試工藝中研磨劃片的廢水處理系統,尤其涉及一種廢水處理系統中的壓濾機。
背景技術
在半導體制造技術中,通過一系列的光刻、刻蝕、沉積、離子注入、研磨、清洗等工藝形成具有各種功能的半導體芯片,然后將所述半導體芯片進行封裝和電性測試,并最終形成終端產品。出于成本和批量生產的考慮,半導體芯片通常被制造在硅基的半導體晶圓上。目前,半導體晶圓的直徑一般為200mm或300mm。在進行封裝之前,首先需要通過碾磨將所述半導體晶圓的厚度減薄;接著通過劃片將每一半導體芯片從所述半導體晶圓上切割下來。在所述碾磨和劃片的工藝中會產生大量的工業廢水,所述廢水中含有懸浮的硅和微量的碾磨劑。現有的廢水處理方法一般通過化學處理的方法,將所述工業廢水和電鍍廢水一起進行PH值調節、絮凝、沉降等過程除去懸浮的硅,廢水達標后排放,所述懸浮的硅經沉降后變成污泥。專利號為200410096592.8的中國專利公開了一種廢水的處理系統和方法,在其公開的專利文獻中,介紹了一種對半導體晶片背面研磨工藝產生的廢水的化學處理方法和系統。
圖1為所述專利申請文件公開的系統的示意圖。如圖1所示,將對半導體晶圓研磨的廢水10輸送至反應槽14,同時向所述反應槽14中同時輸送其他工藝的廢水,例如,化學機械研磨后的廢水,晶圓沖洗的廢水等,即,所述反應槽14中可以為半導體晶圓研磨廢水、化學機械研磨廢水等的混合溶液。然后向所述反應槽14中通入用于凝結用的高分子助凝劑13(例如FSC-835),所述助凝劑與所述廢水中的粒子結合并形成沉淀被析出;接著,通過輸出管線15將經過所述反應槽14處理的廢水導入沉降槽17,向所述沉降槽17中通入凝結用高分子聚合物16(例如EA-630),以結合剩余未與所述助凝劑結合的粒子。然后,通過一個或多個抽污泥泵18將所述沉降槽17中的污泥抽出,并將所述沉降槽17中的經過處理的廢水導入放流槽19中,在所述放流槽19中對所述廢水進行PH值調整,然后通過管線20、輸送泵21和放流管線22將經過處理的廢水輸送至回收槽。
上述廢水處理的方法通過多步化學方法對半導體制造和封裝的廢水進行處理,需要投入大量的化學品,系統和工藝復雜,并且,懸浮硅經沉降后變成的污泥還要大筆的委托處理費用,因此整個廢水處理的成本較高。因而,為了節約成本,簡化工藝,目前也出現了一種對廢水進行物理處理的方法,通過過濾裝置,例如壓濾機,將廢水中的硅或者其他研磨劑進行過濾來實現懸浮物和水的分離,因而降低了廢水處理的成本,簡化了廢水處理的工藝。但是現今大多數壓濾機都采用了單一的濾布過濾的方式來實現懸浮物和水的分離,但是濾布的過濾孔徑通常較大,因此雖然較耐用卻使得過濾精度不高而降低了廢水處理的質量。
實用新型內容
本實用新型解決的問題是現有壓濾機采用單一的濾布結構而降低了廢水處理的質量。
為解決上述問題,本實用新型提供了一種壓濾機濾板,包括板材腔體以及覆蓋于腔體表面的過濾層,其中所述過濾層由濾布和濾膜組成。
所述壓濾機濾板還包括貫穿腔體和過濾層的進料孔、腔體內支撐過濾層的撐凸、在腔體內部形成濾液通道的濾凸、腔體表面供外界洗滌水或空氣進入的預留孔、腔體內部供濾液流出的出液孔以及連通出液孔并將濾液排除腔體的排液孔道。
所述排液孔道和出液孔設置在腔體的帶斜面的框的底部斜面壁內,該斜面壁上同時設置了濾凸。
所述排液孔道和出液孔設置在腔體的帶斜面的框以內的底部平面區域的壁內,所述濾凸設置在腔體的帶斜面的框以內的底部平面區域。
所述濾凸是交叉排列的圓柱形的凸塊,并且同出液孔在上下、左右方向呈交叉排列。
所述濾凸是兩端帶圓柱面的長條形凸塊。
本實用新型還提供了一種壓濾機,包括過濾室,其中過濾室包括濾板,所述濾板包括板材腔體以及覆蓋于腔體表面的過濾層,其中所述過濾層由濾布和濾膜組成。
所述濾板還包括貫穿腔體和過濾層的進料孔、腔體內支撐過濾層的撐凸、在腔體內部形成濾液通道的濾凸、腔體表面供外界洗滌水或空氣進入的預留孔、腔體內部供濾液流出的出液孔以及連通出液孔并將濾液排除腔體的排液孔道。
所述排液孔道和出液孔設置在腔體的帶斜面的框的底部斜面壁內,該斜面壁上同時設置了濾凸。
所述排液孔道和出液孔設置在腔體的帶斜面的框以內的底部平面區域的壁內,所述濾凸設置在腔體的帶斜面的框以內的底部平面區域。
所述濾凸是交叉排列的圓柱形的凸塊,并且同出液孔在上下、左右方向呈交叉排列。
所述濾凸是兩端帶圓柱面的長條形凸塊。
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