[實用新型]薄膜晶體管陣列基板

無效

• 申請號: 200720069485.5
• 申請日: 2007-04-28
• 公開（公告）號: CN201097400Y
• 公開（公告）日: 2008-08-06
• 發明（設計）人: 張鋒
• 申請（專利權）人: 上海廣電光電子有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L23/522;G02F1/1362
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司
• 代理人: 白璧華

1.?一種薄膜晶體管陣列基板，包括

多條沿第一方向延伸的柵極掃描線(20)；

多條沿第二方向延伸的數據線(30)，柵極掃描線(20)和數據線(30)交叉形成像素區域；

設置在像素區域內的薄膜晶體管(31)和像素電極(40)；

形成在與柵極掃描線(20)同一金屬層上的內側遮光線(21)和外側遮光線(22)，并分布在數據線(30)的兩側；

其中所述外側遮光線(22)或數據線(20)的一端至少有一突起(22a)，所述突起(22a)使外側遮光線(22)與數據線(30)交疊，外側遮光線(22)的另一端與橫跨柵極掃描線(20)的修復線(32)的一端交疊，修復線(32)的另一端與柵極掃描線(20)交疊的修復襯墊(23)交疊。

2.?根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于所述的突起(22a)由外側遮光線(22)朝向數據線(30)延伸形成，或由數據線(30)朝向外側遮光線(22)延伸形成。

3.?根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于所述的外側遮光線(22)的上端向外形成有突起(22b)，所述修復線(32)和突起(22b)重疊交叉，且所述修復襯墊(23)與柵極掃描線(20)形成在同一金屬層上，所述修復線(32)與數據線(30)形成在同一金屬層上。

4.?根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于所述的修復線(32)和數據線(30)之間的距離大于等于6微米。

5.?根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于所述的修復襯墊(23)與柵極掃描線(20)形成在同一金屬層上，所述修復線(32)形成在像素電極層上，所述修復線(32)和修復襯墊(23)及外側遮光線(22)的重疊交叉中間層還分別設置有與數據線(30)形成在同一金屬層上的修復襯墊(33a)和(33b)。