[實用新型]一種恒流源器件

無效

• 申請號: 200720060269.4
• 申請日: 2007-11-28
• 公開（公告）號: CN201134434Y
• 公開（公告）日: 2008-10-15
• 發明（設計）人: 吳緯國
• 申請（專利權）人: 廣州南科集成電子有限公司
• 主分類號: H01L29/78
• 分類號: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/41
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司
• 代理人: 李彥孚

1、一種恒流源器件，包括P型硅襯底(1)，形成于所述硅襯底(1)正面的氧化層(6)，位于所述氧化層(6)正面的漏極金屬(2)、源極金屬(3)、柵極金屬(4)，其特征在于：所述恒流源器件還包括植入到所述硅襯底(1)中的P+保護環(50)、N+漏區(52)、N+源區(53)，位于所述N+源區(53)內的P+襯底區(51)，連接所述N+漏區(52)與所述N+源區(53)之間的N-通道區(54)，所述氧化層(6)上有若干個漏極通孔(82)、源極N+通孔(83)、源極P+襯底通孔(81)，所述漏極金屬(2)填充若干個所述漏極通孔(82)并與所述N+漏區(52)相連接，所述源極金屬(3)分別填充若干個源極N+通孔(83)、源極P+襯底通孔(81)并分別與所述N+源區(53)、所述P+襯底區(51)相連接，所述源極金屬(3)、所述柵極金屬(4)通過連接金屬(7)相電連接。

2、根據權利要求1所述的恒流源器件，其特征在于：所述恒流源器件還包括植入到所述硅襯底(1)中的N+保護環(55)，所述N+保護環(55)位于所述P+保護環(50)的內側，所述N+保護環(55)將所述N+漏區(52)包圍或將所述N+漏區(52)與所述N+源區(53)包圍。

3、根據權利要求1所述的恒流源器件，其特征在于：所述漏極金屬(2)、所述源極金屬(3)、所述柵極金屬(4)為鋁或銅或硅鋁合金。