[實用新型]一種基于振鏡陣列的激光在線高速刻痕裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200720058621.0 | 申請日： | 2007-10-23 |
| 公開（公告）號： | CN201091958Y | 公開（公告）日： | 2008-07-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 黃禹;李斌;段正澄;周輔林;龔時華;彭芳瑜;朱國力 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞華中科技大學制造工程研究院華中科技大學 |
| 主分類號： | B23K26/04 | 分類號： | B23K26/04;B23K26/06;B23K26/38 |
| 代理公司： | 東莞市華南專利商標事務(wù)所有限公司 | 代理人： | 梁永宏 |
| 地址： | 523808廣東省東莞*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 陣列 激光 在線 高速 刻痕 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種基于振鏡陣列的激光在線高速刻痕裝置，它包括傳送帶(4)，其特征在于：它還包括振鏡陣列(2)、激光器陣列(1)、用于控制振鏡陣列(2)和激光器陣列(1)的控制裝置(3)，振鏡陣列(2)和激光陣列位于傳送帶(4)正上方，激光器陣列(1)里的每個激光器(11)與振鏡陣列(2)里的振鏡(21)相對應(yīng)設(shè)置，用于控制振鏡陣列(2)掃描軌跡和速度的控制裝置(3)通過電纜分別與振鏡陣列(2)、激光器陣列(1)相連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于振鏡陣列的激光在線高速刻痕裝置，其特征在于：所述振鏡陣列(2)由多個沿橫向布置的振鏡(21)和多個沿縱向布置的振鏡(21)構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于振鏡陣列的激光在線高速刻痕裝置，其特征在于：所述激光器陣列(1)分成兩個子陣列分別對應(yīng)設(shè)于振鏡陣列(2)的兩個子陣列的兩端。
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