[實用新型]一種行星仿形拋光磨頭

無效

• 申請號: 200720056842.4
• 申請日: 2007-09-06
• 公開（公告）號: CN201105406Y
• 公開（公告）日: 2008-08-27
• 發明（設計）人: 丘兆才
• 申請（專利權）人: 廣東科達機電股份有限公司
• 主分類號: B24B29/00
• 分類號: B24B29/00;B24B41/04
• 代理公司: 中山市科創專利代理有限公司
• 代理人: 尹文濤

[技術領域]

本實用新型涉及陶瓷制品的加工領域，更具體地說是涉及一種陶瓷拋光磨頭。

[背景技術]

目前對陶瓷磚進行拋光，行星式拋光磨頭是常用的加工設備，其具有磨削效率高的優點。如圖1所示，現有的行星式拋光磨頭，包括有磨頭體100，在磨頭體100上軸向定位安裝有行星齒輪軸200，在行星齒輪軸100的底部剛性聯接有固定式行星磨輪300，該固定式行星磨輪300可以繞行星齒輪軸200旋轉運動。現有技術的行星式拋光磨頭的工作原理是：磨頭體100旋轉(公轉)，帶動行星齒輪軸200旋轉(自轉)；安裝在行星齒輪軸200上的固定式行星磨輪300隨磨頭體作公轉，同時自轉；作公轉和自轉復合運動的固定式行星磨輪300對工件400進行磨削拋光。

然而，現有技術行星式拋光磨頭存在以下不足：1、容易出現漏拋或拋光不均勻。由于磚坯表面存在不平整度，固定式行星磨輪與磚坯接觸不均勻，甚至有的固定式行星磨輪不接觸磚坯表面，導致漏拋或拋光不均勻。如圖2所示為現有技術行星式拋光磨頭存在拋光不均勻現象示意圖。2、對于有彎曲表面的瓷磚無法加工。

為此有必要對現有技術進行改進，以解決上述問題。

[實用新型內容]

本實用新型克服了上述技術的不足，提供一種能夠按照磚坯原有的表面進行均勻磨削拋光、不會出現漏拋或拋光不均勻現象的行星仿形拋光設備。

為實現上述目的，本實用新型采用了下列技術方案：一種行星仿形拋光磨頭，包括有磨頭體，在磨頭體內裝有傳動齒輪組，其特征在于：在磨頭體內裝有能夠軸向滑動的輸出軸，在輸出軸上設有與傳動齒輪組嚙合的從動齒輪，在輸出軸的伸出端通過彈性連軸節裝有可繞軸端擺動的浮動磨輪。

如上所述的一種行星仿形拋光磨頭，其特征在于：輸出軸通過徑向軸承和推力軸承安裝于磨頭體上，在推力軸承和輸出軸之間設有壓縮彈簧。

如上所述的一種行星仿形拋光磨頭，其特征在于：在輸出軸的伸出端設有連接盤，所述的彈性連軸節一端與連接盤連接，另一端與浮動磨輪連接。

如上所述的一種行星仿形拋光磨頭，其特征在于：在連接盤中心設有凸軸，所述凸軸上設有外球面；在所述浮動磨輪上設有內凹球面，所述的浮動磨輪通過內凹球面與凸軸外球面的配合而實現擺動。

如上所述的一種行星仿形拋光磨頭，其特征在于：在推力軸承內固定有一個定位件，在輸出軸的上端開有孔，在孔與定位件之間設有所述壓縮彈簧。

與現有技術相比本實用新型的有益效果是：由于本實用新型，包括有磨頭體，在磨頭體內裝有傳動齒輪組，在磨頭體內裝有能夠軸向滑動的輸出軸，在輸出軸上設有與傳動齒輪組嚙合的從動齒輪，在輸出軸的伸出端通過彈性連軸節裝有可繞軸端擺動的浮動磨輪，這樣當磨頭體旋轉，帶動輸出軸旋轉，安裝在輸出軸上的浮動磨輪等隨磨頭體作公轉，同時自轉；同時作公轉和自轉復合運動的浮動磨輪對工件進行磨削拋光。當浮動磨輪對工件凹凸不平的表面進行磨削拋光加工時，浮動磨輪可以跟隨曲面上下滑動，同時浮動磨輪可以左右傾斜一角度，使磨輪始終與工件拋光表面貼合，獲得均勻的拋光效果，解決了現有技術的漏拋或拋光不均勻的問題。

[附圖說明]

下面結合附圖與本實用新型的實施方式作進一步詳細的描述：

圖1為現有技術的結構示意圖；

圖2為現有技術進行加工時出現漏拋或拋光不均勻的現象示意圖；

圖3為本實用新型結構示意圖；

圖4為本實用新型進行加工時的示意圖；

圖5為圖3的A處局部放大圖。

[具體實施方式]

如圖3～4所示，一種行星仿形拋光磨頭，包括有磨頭體1，在磨頭體1內裝有傳動齒輪組2，在磨頭體1內裝有能夠軸向滑動的輸出軸3，在輸出軸3上設有與傳動齒輪組嚙合的從動齒輪4，在輸出軸3的伸出端通過彈性連軸節5裝有可繞軸端擺動的浮動磨輪6。這樣當磨頭體1旋轉，傳動齒輪組2帶動設有從動齒輪4的輸出軸3旋轉，安裝在在輸出軸3的伸出端上的浮動磨輪6等隨磨頭體作公轉，同時自轉；同時作公轉和自轉復合運動的浮動磨輪6對工件400進行磨削拋光。當浮動磨輪6對工件400凹凸不平的表面進行磨削拋光加工時，浮動磨輪6可以跟隨曲面上下滑動，同時浮動磨輪6可以左右傾斜一角度，使磨輪始終與工件拋光表面貼合，獲得均勻的拋光效果。