[實用新型]液晶屏清潔設備

無效

• 申請號: 200720040906.1
• 申請日: 2007-07-19
• 公開（公告）號: CN201064785Y
• 公開（公告）日: 2008-05-28
• 發明（設計）人: 莊添財
• 申請（專利權）人: 莊添財
• 主分類號: B08B11/00
• 分類號: B08B11/00;B08B7/00;B08B7/04;B08B1/00;B08B3/12
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司
• 代理人: 孫仿衛

技術領域

本實用新型涉及一種液晶屏清潔設備，屬于液晶顯示器件制造領域。

背景技術

工業上在生產半導體、微處理器、液晶顯示類產品或精密儀器和光學產品時，通常需要在無塵度要求較高的自動化流水線上進行，而這些產品的零組件在生產前或裝配前通常需要進行清潔。以液晶顯示模組的生產為例，液晶屏在組裝前需要對其兩側的金屬引腳進行清潔，現有的清潔設備通常具有超聲波清洗裝置和帶清潔裝置，其清潔效果不佳，在液晶屏的組裝過程中液晶屏的金屬引腳與后續的電路板容易發生虛焊或連接不牢。特別是對于金屬引腳上殘留的指紋，傳統的超聲波清洗和帶清潔裝置均無法徹底去除金屬引腳上的油脂膜和氯化鈉等，長時間以后，油脂膜和氯化鈉等物質將金屬引腳腐蝕，致使液晶顯示器成品出現亮線等顯示異常現象。

發明內容

本實用新型的目的是提供一種液晶屏清潔設備，其能夠更好的清除液晶屏上的有機污染物。

本實用新型的技術方案是：一種液晶屏清潔設備，包括：機架、可移動地設置在所述的機架上的用于承載和輸送液晶屏的工作臺，所述的機架上沿液晶屏的行進路線依次設置有用于清潔液晶屏的超聲波清潔裝置和帶清潔裝置，所述的帶清潔裝置的前側還設置有等離子清洗裝置。

所述的等離子清洗裝置具有外電極、內電極、設置在所述的內電極與所述的外電極之間的絕緣層，所述的外電極具有可導入處理氣體的內腔，所述的內電極設置在該內腔中，并且所述的絕緣層位于所述的外電極內壁的上部，所述的外電極的底部開有與所述的內電極正對的開口，所述的開口位于所述的工作臺的上方。

本實用新型與現有技術相比具有如下優點：本實用新型利用等離子清洗裝置在液晶屏的金屬引腳處清潔，可清除金屬表面的油脂、油污等有機物及氧化層，使其在進行粘膠和焊接前，經處理得到完全潔凈和無氧化層的表面，使粘膠和焊接的效果更好，還可避免由指紋或污染物引起的金屬引腳被腐蝕的隱患，進一步提高產品的合格率。

附圖說明

附圖1為本實用新型的主視圖；

附圖2為本實用新型的等離子清洗裝置的原理示意圖；

其中：1、機架；2、帶清潔裝置；21、清潔帶；3、超音波清潔裝置；4、等離子清洗裝置；41、外電極；42、內電極；43、內腔；44、開口；45、絕緣層；46、等離子束；47、進氣孔；5、工作臺。

具體實施方式

參見附圖1至附圖2，一種液晶屏清潔設備，包括：機架1、可移動地設置在所述的機架1上的用于承載和輸送液晶屏的工作臺5，所述的機架1上沿液晶屏的行進路線依次設置有用于清潔液晶屏的超聲波清潔裝置3和帶清潔裝置2，工作臺5承載著待清潔的液晶屏依次經過超聲波清潔裝置3和帶清潔裝置2，對液晶屏的金屬引腳進行清潔。

所述的帶清潔裝置2的前側(附圖1中左側為“前”，右側即為“后”)還設置有等離子清洗裝置4，所述的等離子清洗裝置4具有外電極41、內電極42、設置在所述的內電極42與所述的外電極41之間的絕緣層45，所述的外電極41具有可導入處理氣體的內腔43，所述的內電極42設置在該內腔43中，并且所述的絕緣層45位于所述的外電極41內壁的上部，所述的外電極41的底部開有與所述的內電極42正對的開口44，所述的開口44位于所述的工作臺5的上方。

在本實用新型進行工作時，通過進氣口47向內腔43中充入氮氣或潔凈的壓縮空氣作處理氣體，由于外電極41內壁的上部設置有絕緣層45，而內電極42會在與其最接近的放電點之間形成等離子柱46，因此等離子柱46的行進方向會朝向外電極41的底部開口44處，等離子柱46穿過內腔43，并可在開口44附近區域射出等離子，因此工作臺5承載著液晶屏在等離子清洗裝置4的下方經過時，液晶屏的表面被等離子轟擊，從而可將污物去除，并使液晶屏的金屬引腳裸露出完全潔凈和無氧化層的表面。

等離子體清洗技術是一種干法清洗技術，從根本上防止了二次污染，其可對油污、水痕、指紋、有機污染物、硅膠等進行超精密清洗，還可對工件表面進行改性，使其具有更好的粘合性、化學活性等。因此本實用新型可清除金屬引腳表面的油脂、油污等有機物及氧化層，使其在進行粘膠和焊接前，經處理得到完全潔凈和無氧化層的表面，使粘膠和焊接的效果更好，還可避免由指紋或污染物引起的金屬引腳被腐蝕的隱患，進一步提高產品的合格率。

在實際工作時，一般選擇氮氣作為處理氣體，氮氣流量為10～30L/Min，氣體壓力大于3.20kg/cm2；若選用潔凈壓縮空氣作處理氣體，一般氣體流量大于400L/Min，氣體壓力大于5.5Kg/cm²；工作臺5距離等離子清潔裝置4的距離為3～10mm范圍，處理速度50～200mm/s。