[實(shí)用新型]激光衰減器無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200720031746.4 | 申請(qǐng)日: | 2007-05-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201037880Y | 公開(公告)日: | 2008-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 達(dá)爭(zhēng)尚;孫策;董曉娜;董衛(wèi)斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G02F1/01 | 分類號(hào): | G02F1/01;G02F1/35;G02B5/04 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 商宇科 |
| 地址: | 710119陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光 衰減器 | ||
1.一種激光衰減器,其特征在于:所述激光衰減器包括劈板、底板,所述劈板為兩個(gè),相對(duì)錯(cuò)開設(shè)置在底板上,兩劈板相對(duì)的面互相平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光衰減器,其特征在于:所述兩劈板相對(duì)的工作面上對(duì)應(yīng)設(shè)置有鍍膜段和非鍍膜段。
3.據(jù)權(quán)利要求2述的激光衰減器,其特征在于:所述工作面上的鍍膜段和非鍍膜段分別為一個(gè)或多個(gè)。
4.據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的激光衰減器,其特征在于:所述劈板工作面的法線和入射光的夾角小于10°。
5.據(jù)權(quán)利要求4所述的激光衰減器,其特征在于:所述劈板的劈角為6°。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的激光衰減器,其特征在于:所述劈板的背面鍍有增透膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光衰減器,其特征在于:所述劈板通過結(jié)構(gòu)保持件設(shè)置在底板上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200720031746.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





